[发明专利]光刻设备对准方法

权利要求书

1.一种光刻设备对准方法，其特征在于，包括以下步骤：

光源与照明模块提供照明光束照射到对准标记上形成衍射光，所述对准标记位于硅片上，所述硅片位于运动台上；

位置采集与运动控制模块采集运动台的位置信息，与对准操作与管理模块同步谈判，控制运动台进行运动；

所述衍射光通过成像模块形成对准标记的像，所述对准标记的像扫描参考光栅的多个子光栅形成光强信号；

所述对准操作与管理模块采集运动台运动过程中的若干位置信号和对应位置的光强信号，由队列处理模块获得所述若干位置信号和对应位置的光强信号的拟合结果，所述队列处理模块包括拟合命令队列、位置光强队列和拟合结果队列，所述拟合命令队列、所述位置光强队列和所述拟合结果队列为环形队列或者链队列；

根据所述拟合结果计算所述对准标记的对准位置。

2.根据权利要求1所述的光刻设备对准方法，其特征在于，在所有步骤前，进行对准操作与管理模块初始化。

3.根据权利要求1所述的光刻设备对准方法，其特征在于，所述由队列处理模块获得所述若干位置信号和对应位置的光强信号的拟合结果，包括：

下发拟合命令到所述拟合命令队列；

读入所述位置信号和对应位置的光强信号，存储到所述位置光强队列；

读取所述拟合命令队列的拟合命令；

从所述位置光强队列中读取所述拟合命令对应的位置信号和对应位置的光强信号；

进行拟合，将拟合结果存储到所述拟合结果队列；

判断所述拟合结果队列是否为空，当所述拟合结果队列不为空时返回所述拟合结果。

4.根据权利要求1所述的光刻设备对准方法，其特征在于，对准系统开诊断时把原始数据和拟合过程中产生的中间数据分别存入所述拟合命令队列的诊断数据和过程数据中，对准系统通过所述诊断数据和所述过程数据追踪系统的问题和错误。

5.根据权利要求3所述的光刻设备对准方法，其特征在于，当所述拟合命令队列及所述拟合结果队列的大小为1时，所述队列处理模块在每次拟合完成返回所述拟合结果后再下发新的拟合命令。

6.根据权利要求3所述的光刻设备对准方法，其特征在于，在所述下发拟合命令到所述拟合命令队列之前，判断拟合命令队列是否为满，如果为满，不再下发拟合命令，等待所述队列处理模块处理拟合命令。

7.根据权利要求3所述的光刻设备对准方法，其特征在于，在所述读取所述拟合命令队列的拟合命令之前，判断拟合命令队列是否为空，如果为空，不再读取拟合命令，等待下发拟合命令。

8.根据权利要求3所述的光刻设备对准方法，其特征在于，在所述读入所述位置信号和对应位置的光强信号，存储到所述位置光强队列之前，判断所述位置光强队列是否为满，如果为满，不再读入位置信号和对应位置的光强信号，等待队列处理模块读取位置信号和对应位置的光强信号进行拟合。