[发明专利]一种磁处理装置

权利要求书

1.一种磁处理装置，其自上而下依次包括进口（10）、上连接器（9）、中部磁化室（6）、下连接器（8）和出口（7）其特征在于： 

所述的磁化室（6）内包括上下m层、每一层分别平行的m个矩形磁体（1）组，其中的矩形磁体（1）的长边按照纵向布置； 

所述的矩形磁体（1）组中的两个矩形磁体（1）朝向磁化室（6）中心并排平行布置，中间形成长条窄缝； 

连接上连接器（9）和下连接器（8）的处理通道（5）位于每两个相邻的矩形磁体（1）形成的长条窄缝的两端边沿内； 

所述的矩形磁体（1）采用钕铁硼烧结而成然后镀镍、充磁制得； 

所述的处理通道（5）的上端与上连接器（9）连接处设置有导向磁体（2）；所述的每个导向磁体（2）朝向进油口（10）另一侧的端面装有磁路片。 

2.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述的矩形磁体（1）组的磁端面分别由矩形磁体（1）的N极和N极、S极和S极或N极与S极所形成。 

3.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述的矩形磁体（1）组数为1～10个。 

4.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述矩形磁体（1）长×宽×厚度为4-500mm×4-300mm×4-300mm。 

5.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述的矩形磁体（1）组中的两个矩形磁体（1）形成的长条窄缝间隔为0.1-50mm。 

6.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述的每个矩形磁体（1）朝向磁化室（6）外侧的矩平面上装有磁路片（4）；所述的磁路片（4）由矽钢片或工业纯铁制成；所述磁路片（4）长宽与矩形磁体（1）长宽相同，厚度为0.2-10mm。 

7.根据权利要求1的磁处理装置，其特征在于： 

所述的处理通道（5）的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形； 

所述的处理通道（5）的截面积为0.0314-2000mm²。 

8.根据权利要求7的磁处理装置，其特征在于： 

所述的磁化室（6）通过连接扣（11）、（3）与上油室（9）和下油室（8）连接。 

9.根据权利要求2～8之一的磁处理装置，其特征在于： 

所述的矩形磁体（1）组数为1～10个； 

所述的矩形磁体（1）长×宽×厚度为4-500mm×4-300mm×4-300mm； 

所述的矩形磁体（1）组中的两个矩形磁体（1）形成的长条窄缝间隔为0.1-50mm； 

所述的磁化室（6）通过连接扣（11）、（3）与上连接器（9）和下连接器（8）连接； 

所述的每个矩形磁体（1）朝向磁化室（6）外侧的矩平面上装有磁路片（4）； 

所述的磁路片（4）由矽钢片或工业纯铁制成； 

所述的磁路片（4）长宽与矩形磁体（1）长宽相同，厚度为0.2-10mm； 

所述的处理通道（5）的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形； 

所述的处理通道（5）的截面积为0.0314-2000mm²。