[发明专利]液晶显示装置及其形成方法有效
申请号: | 201110081985.1 | 申请日: | 2005-12-26 |
公开(公告)号: | CN102176100A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 姚启文 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L29/786;H01L21/77 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 形成 方法 | ||
1.一种液晶显示装置,其特征在于包括:
一栅极线,形成于一绝缘基板上;
其中该栅极线当中一区段的一边凸出而形成一凸出区域,以及该区段具有一空洞区域正对于所述凸出区域;
一画素电极,形成于所述绝缘基板上;
一主动层,形成于所述区段之该栅极线上,该主动层与该栅极线重叠形成一重叠区域;
一源极线,依大体上垂直于所述栅极线的延伸方向,横跨所述主动层与所述栅极线的重叠区域而延伸超出所述主动层的边界,该源极线与所述重叠区域的边缘在栅极线方向的距离大于曝光机在栅极线方向的精度变化量;以及
一漏极线,耦接所述画素电极,与所述画素电极电性连接,并依大体上平行于所述源极线的延伸方向,横跨并延伸超出所述主动层与所述栅极线的重叠区域至该空洞区域,该漏极线与所述重叠区域在栅极线方向、垂直于栅极线方向的距离分别大于曝光机在栅极线方向、垂直于栅极线方向的精度变化量。
2.一种液晶显示装置的形成方法,其特征在于包括:
在一绝缘基板上形成一栅极线,
其中所述栅极线当中一区段的一边凸出而形成一凸出区域,以及具有一空洞区域正对于所述凸出区域;
在所述区段之该栅极线上形成一主动层,该主动层与该栅极线重叠形成一重叠区域;
在所述主动层及绝缘基板上定义一源极线与一漏极线,以令所述源极线依大体上垂直于所述栅极线的延伸方向来横跨所述主动层与所述栅极线的重叠区域而延伸超出所述主动层的边界至该空洞区域,该源极线与所述重叠区域的边缘在栅极线方向的距离大于曝光机在栅极线方向的精度变化量;以及令所述漏极线依大体上平行于所述源极线的延伸方向,由所述栅极线凸出侧一预定形成一画素电极的区域,横跨并延伸超出所述主动层与所述栅极线的重叠区域,该漏极线与所述重叠区域在栅极线方向、垂直于栅极线方向的距离分别大于曝光机在栅极线方向、垂直于栅极线方向的精度变化量;以及
在所述画素电极区域形成一画素电极,与所述漏极线电性连接。
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