[发明专利]一种太赫兹波成像装置

权利要求书

1.一种太赫兹波成像装置，所述装置包括放置待检测物品的样品台、用于发出太赫兹光的太赫兹波辐射源，其特征在于，所述装置还包括：

透镜，用于将经所述透镜一侧入射的所述太赫兹光聚焦到所述透镜另一侧的焦点；

第一离轴抛物面镜，用于将所述透镜聚焦后的所述太赫兹光转换成平行太赫兹光；

反射镜，用于对所述第一离轴抛物面镜转换后的平行太赫兹光进行反射；

第二离轴抛物面镜，用于将所述反射镜反射后的平行太赫兹光聚焦到所述样品台上的所述待检测物品；

置于所述太赫兹光路经所述待检测物品的出射光路上的斩波器，用于对所述待检测物品出射、携带有所述待检测物品信息的太赫兹光进行斩波调制处理；

探测器，用于感应经所述斩波器斩波调制处理后的太赫兹光的各探测点的能量变化，并根据所述各探测点的能量变化产生相应的多个电信号；

信号处理单元，用于将所述探测器产生的所述各探测点的电信号进行放大处理以及模/数转换处理，得到多个结果值；

显示端，用于根据所述多个结果值，利用扫描成像软件对所述待检测物品进行成像并显示。

2.如权利要求1所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述反射镜包括第一反射镜以及第二反射镜；所述第一反射镜用于将所述第一离轴抛物面镜转换后的平行太赫兹光反射至所述第二反射镜，所述第二反射镜用于将所述第一反射镜反射后的平行太赫兹光进行反射。

3.如权利要求1所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述第一离轴抛物面镜和所述第二离轴抛物面镜之间的所述太赫兹光路在一内壁光滑的金属管内传输。

4.如权利要求1所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述显示端集成于一控制装置中，所述装置还包括一步进电机单元，所述步进电机单元包括：

步进电机；以及

步进电机控制器，用于根据所述控制装置的控制指令，控制所述步进电机的运行，进而控制所述样品台的移动。

5.如权利要求1至4任一项所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述透镜的焦距是10cm；所述第一离轴抛物面镜的焦距是5cm；所述第二离轴抛物面镜的焦距是10cm。

6.如权利要求5所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述太赫兹波辐射源为光泵太赫兹激光器。

7.如权利要求6所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述探测器是热释电探测器。

8.如权利要求5所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述探测器是热释电探测器。

9.如权利要求1至4任一项所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述太赫兹波辐射源为光泵太赫兹激光器。

10.如权利要求1至4任一项所述的太赫兹波成像装置，其特征在于，所述探测器是热释电探测器。