[发明专利]介质输送设备和图像形成设备有效
申请号: | 201110084086.7 | 申请日: | 2011-03-31 |
公开(公告)号: | CN102234037A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 山本悟;高桥圭太;大谷笃志;武田庄司;关广高 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B65H7/20 | 分类号: | B65H7/20;B65H7/14;G03G15/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 输送 设备 图像 形成 | ||
1.一种介质输送设备,包括:
输送路径,用于输送介质;
多个输送部件,用于沿着所述输送路径输送介质;
第一下位层控制部件,用于控制所述多个输送部件中的、在所述输送路径的第一输送区间中输送介质的输送部件;
第二下位层控制部件,用于控制所述多个输送部件中的、在位于所述第一输送区间在介质输送方向的下游侧的第二输送区间中输送介质的输送部件;
上位层控制部件,用于控制所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件;以及
通过检测部件,其设置在所述输送路径中,并且用于检测介质的通过,其中,
所述上位层控制部件进一步用于:
根据由所述通过检测部件所获得的检测结果,判断介质是否位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处;
当所述上位层控制部件判断为介质位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处时,指示所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件彼此同步地进行工作;以及
当所述上位层控制部件判断为介质不位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处时,指示所述第二下位层控制部件以与所述第一下位层控制部件异步的方式进行工作。
2.根据权利要求1所述的介质输送设备,其特征在于,
所述通过检测部件包括多个通过检测部件,所述多个通过检测部件包括:
第一感测部件,用于感测在所述第一输送区间中输送的介质的前端和后端的通过;以及
第二感测部件,用于感测在所述第二输送区间中输送的介质的前端和后端的通过,以及
所述上位层控制部件进一步用于:
当在所述第一感测部件感测到介质的前端的通过之后并且在所述第一感测部件感测到介质的后端的通过之前,所述第二感测部件感测到介质的前端的通过时,指示所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件彼此同步地进行工作;以及
当在所述第一感测部件感测到介质的后端的通过之后,所述第二感测部件感测到介质的前端的通过时,指示所述第二下位层控制部件以与所述第一下位层控制部件异步的方式进行工作。
3.根据权利要求1所述的介质输送设备,其特征在于,
所述上位层控制部件进一步用于:
将同步请求命令经由第一通信路径发送至所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件,并且在接收到对所述同步请求命令的应答之后将同步命令经由所述第一通信路径发送至所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件,其中所述同步请求命令指示由所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件分别进行控制的输送部件彼此同步地停止或启动,所述同步命令指示同步时序;以及
将异步操作命令经由所述第一通信路径发送至所述第二下位层控制部件,其中所述异步操作命令指示由所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件分别进行控制的输送部件彼此异步地进行工作。
4.根据权利要求1所述的介质输送设备,其特征在于,还包括:
第二通信路径,用于将指示同步时序的同步信号从所述上位层控制部件发送至所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件,其中,
所述上位层控制部件进一步用于:
将同步请求命令经由第一通信路径发送至所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件,并且在接收到对所述同步请求命令的应答之后将同步命令经由所述第一通信路径发送至所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件,其中所述同步请求命令指示由所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件分别进行控制的输送部件彼此同步地停止或启动,所述同步命令指示同步时序;以及
将异步操作命令经由所述第一通信路径发送至所述第二下位层控制部件,其中所述异步操作命令指示由所述第二下位层控制部件进行控制的输送部件以与由所述第一下位层控制部件进行控制的输送部件异步的方式停止或启动。
5.根据权利要求4所述的介质输送设备,其特征在于,所述第一通信路径是串行通信线,并且所述第二通信路径是单一信号线。
6.一种图像形成设备,包括:
介质输送设备;以及
图像形成部件,用于将图像形成在由所述介质输送设备所输送的介质上,其中,
所述介质输送设备包括:
输送路径,用于输送介质;
多个输送部件,用于沿着所述输送路径输送介质;
第一下位层控制部件,用于控制所述多个输送部件中的、在所述输送路径的第一输送区间中输送介质的输送部件;
第二下位层控制部件,用于控制所述多个输送部件中的、在位于所述第一输送区间在介质输送方向的下游侧的第二输送区间中输送介质的输送部件;
上位层控制部件,用于控制所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件;以及
通过检测部件,其设置在所述输送路径中,并且用于检测介质的通过,其中,
所述上位层控制部件进一步用于:
根据由所述通过检测部件所获得的检测结果,判断介质是否位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处;
当所述上位层控制部件判断为介质位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处时,指示所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件彼此同步地进行工作;以及
当所述上位层控制部件判断为介质不位于所述第一下位层控制部件和所述第二下位层控制部件均参与进行介质的输送控制的位置处时,指示所述第二下位层控制部件以与所述第一下位层控制部件异步的方式进行工作。
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