[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具有：

液槽，其用于保持被处理基板并将该被处理基板浸渍到液体中；

处理容器，在该处理容器中，在将该液槽配置在内部的处理空间中、且将该液槽内的液体置换为超临界状态的流体之后，通过对该处理空间内进行减压而使上述流体成为气体，从而进行使上述被处理基板干燥的处理；

流体供给部，其用于以液体状态或者超临界状态将上述流体供给到该处理容器中；

排液部，其用于将上述液槽内的液体排出；

移动机构，其用于使上述液槽在上述处理容器内的处理位置和该处理容器的外部的准备位置之间移动；

加热机构，其为了使供给到上述处理容器中的流体成为超临界状态或者维持该超临界状态而加热上述处理空间；

冷却机构，其用于对移动到上述准备位置的液槽进行冷却。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述液体为挥发性的液体，该液体被供给到由上述冷却机构进行了冷却后的液槽中。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

在利用上述冷却机构对液槽进行了冷却后，将被处理基板浸渍到该液槽内的液体中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

上述液槽构成为沿纵向保持被处理基板。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

上述移动机构构成为使上述液槽沿横向移动。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述液槽上一体地设有用于开闭被形成于处理容器上的搬入搬出口的盖构件，

该基板处理装置具有用于阻止堵塞着上述开口部的盖构件的打开的止挡机构。