[发明专利]半导体封装的粘片工艺无效

专利信息
申请号: 201110087743.3 申请日: 2011-04-08
公开(公告)号: CN102184872A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 王飞;吴斌;陈武伟 申请(专利权)人: 嘉盛半导体(苏州)有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/58
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 汤在彦
地址: 215021 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 工艺
【权利要求书】:

1.一种半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述半导体封装的粘片工艺包括以下步骤:

a)刷胶:提供一晶圆,其具有正面和背面,所述晶圆背面为裸硅面,在所述晶圆背面上涂覆有一层接合胶;

b)切割:对涂覆有接合胶的晶圆进行切割,以形成多颗彼此分离的芯片;

c)粘合:将分离后的芯片粘有接合胶的一面粘贴在基板上。

2.如权利要求1所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述步骤a包括利用印刷治具对所述晶圆背面进行涂胶,所述印刷治具上设有刷胶区,所述刷胶区与所述晶圆的背面相对,所述接合胶通过所述刷胶区被涂覆至所述晶圆的背面。

3.如权利要求2所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述印刷治具为网板,所述刷胶区为所述网板上的一个圆形区域,所述刷胶区的面积小于所述晶圆的面积,所述网板除所述圆形区域以外的部分通过胶层密封覆盖。

4.如权利要求2所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述印刷治具为钢板,所述刷胶区为开设在所述钢板上的圆形通孔,所述刷胶区的面积小于所述晶圆的面积。

5.如权利要求1所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,在所述步骤a之前还包括晶圆减薄步骤:对晶圆背面进行研磨,研磨后晶圆厚度为75~300μm。

6.如权利要求1所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,在所述步骤a和所述步骤b之间还包括步骤a1:在所述晶圆背面涂覆的接合胶上粘贴胶带层。

7.如权利要求6所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,在所述步骤a与所述步骤a1之间还包括半固化步骤:将印刷好接合胶的晶圆进行烘烤,使接合胶半固化。

8.如权利要求7所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,在所述步骤c之后还包括加热步骤:对粘有芯片的基板进行加热,使半固化的接合胶软化,所述芯片与基板粘合。

9.如权利要求1所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述接合胶的胶层厚度为0.05~0.5mm。

10.如权利要求1所述的半导体封装的粘片工艺,其特征在于,所述接合胶为导电性胶或非导电性胶。

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