[发明专利]具有可绕射光栅点的微结构、膜料及该膜料的形成方法有效
申请号: | 201110095281.X | 申请日: | 2011-04-15 |
公开(公告)号: | CN102737262A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 廖宏荣;张颖岳;何宜津;王毅琪 | 申请(专利权)人: | 华锦光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G06K19/06 | 分类号: | G06K19/06;G02B5/18 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 董彬 |
地址: | 中国台湾台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 可绕射 光栅 微结构 料及 形成 方法 | ||
1.一种具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,包括:包括多个可绕射光栅点的一图样区以及运用于该些可绕射光栅点的多个防伪手段,该图样区包括一不能目视辨识的图样,该些防伪手段包括一影像防伪手段,其中透过一微透镜数组,以辨识该影像防伪手段下的该不能目视辨识的图样的一图样影像。
2.如权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该图样区包括多个微小区块单元,每一该微小区块单元包括利用部分该些可绕射光栅点形成的一微小图样,该图样影像由该些微小图样所贡献而被该微透镜数组所辨识。
3.如权利要求2所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些微小区块单元的维数相同或相异。
4.如权利要求2所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些防伪手段还包括运用于该些微小区块单元的一深层防伪手段,该深层防伪手段包括于该些可绕射光栅点之间分布的多个留空点,该深层防伪手段使得透过一光学显微镜,该些微小区块单元之间不能被辨识。
5.如权利要求2所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些防伪手段还包括运用于该些微小区块单元的一深层防伪手段,该深层防伪手段包括于该些可绕射光栅点之间分布的多个留空点,该深层防伪手段使得透过一光学显微镜,该些微小图样不能被辨识。
6.如权利要求4或5所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些留空点于该图样区为无光栅的点,或是以镭射直写方式纪录的点,或是以电子束书写方式纪录的点。
7.如权利要求2所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该微透镜数组具有一第一周期,该影像防伪手段包括运用于该些微小区块单元的一第二周期以及一第三周期,该第一周期的大小介于该第二周期以及该第三周期之间。
8.如权利要求7所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该图样影像包括相对运动的两部分。
9.如权利要求7所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该图样影像包括一三维影像。
10.如权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些防伪手段包括使该些可绕射光栅点的多个光栅角度、多个光栅间距、多个光栅点大小相同或相异。
11.如权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些防伪手段包括使部分该些可绕射光栅点的多条暗纹与其它的可绕射光栅点的多条暗纹错位以形成一叠纹图样。
12.如权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构,其特征在于,该些防伪手段包括于该些可绕射光栅点之间分布的多个散射点。
13.一种素材,包括权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构,该微结构形成于一高分子层与一反射层之间。
14.如权利要求13所述的素材,其特征在于,还包括位于该高分子层与该反射层之间的一目视可辨识的巨观图样。
15.如权利要求14所述的素材,其特征在于,该目视可辨识的巨观图样包括一油墨印刷图案或是一全像图案。
16.一种膜料,包括权利要求1所述的具有可绕射光栅点的微结构以及微透镜数组,其中该具有可绕射光栅点的微结构形成于一高分子层与一反射层之间,该微透镜数组形成于一紫外光感光层上,该紫外光感光层位于该高分子层远离该反射层的表面上。
17.如权利要求16所述的膜料,其特征在于,还包括位于该高分子层与该反射层之间的一目视可辨识的巨观图样。
18.如权利要求16所述的膜料,其特征在于,还包括形成于该紫外光感光层上的一目视可辨识的全像图样。
19.一种包括微透镜数组以及全像图样的膜料的形成方法,其特征在于,包括:
提供一高分子层;
移转一不能目视辨识的图样于该高分子层的一表面上的一图样区上,其中该图样区包括多个可绕射光栅点以及运用于该些可绕射光栅点的一影像防伪手段;
形成一反射层于该高分子层的一表面并覆盖该图样区;
形成一紫外光感光层于该高分子层的另一表面上;
移转一微透镜数组图案与一目视可辨识的巨观图样于该紫外光感光层上;以及
硬化处理该紫外光感光层,其中透过该微透镜数组以辨识该影像防伪手段下的该不能目视辨识的图样的一图样影像。
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