[发明专利]具有可绕射光栅点的微结构、膜料及该膜料的形成方法有效
申请号: | 201110095281.X | 申请日: | 2011-04-15 |
公开(公告)号: | CN102737262A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 廖宏荣;张颖岳;何宜津;王毅琪 | 申请(专利权)人: | 华锦光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G06K19/06 | 分类号: | G06K19/06;G02B5/18 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 董彬 |
地址: | 中国台湾台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 可绕射 光栅 微结构 料及 形成 方法 | ||
技术领域
本发明有关一种具有光栅点的微结构及其应用,特别是有关一种具有可绕射光栅点的微结构、具有该微结构的膜料及该膜料的形成方法。
背景技术
为了防止未经允许的复制、制造以及变更文件或产品,防伪策略至今发展出多种的方法。利用照相、油墨材料变化产生图案的防伪方法需依赖复杂的图案设计和分辨率,并配合昂贵的印刷机台才能制作出所需的印刷图案,如此成本的增加,在许多情形下不能有效提供防止未经允许的复制或变更。
近年来,防伪技术发展迅速,主要以镭射光全像图为主,但随着全像技术的公开,防伪功能亦受到挑战。中国专利号99814131.3提供一种隐形图文辨识系统以及其制作方法,利用数字四维变异量技术,于同一系统中制作多种组合的隐形图文来产生印件上的暗记图文以及数字辨识器。印件本身通过光的折射和绕射可显现出暗记图文,当搭配不同的数字辨识器,则可以显现另外的暗记图文。上述专利揭露的数字辨识器上分布多种组合的特定焦距的微小镜片,虽然具有被动仿制、分解参数、重复加工的困难度,但如此的数字辨识器由于与印件对应,且具有特定焦距的组合,因此数字辨识器的制作需要高精度,当特定的数字辨识器无法取得时,可能造成无法辨识的情形,丧失分级管制的防伪目的。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是,针对现有技术存在的上述不足,提供一种具有可绕射光栅点的微结构,利用光栅的多种参数的搭配,设计出不同层次的防伪结构,以提供不同业者或使用者客制化所需的防伪图案之用,不同的使用者以及业者亦可透过不同的辅助工具判读辨识出属于其层次的图案。
本发明要解决的另一技术问题是,针对现有技术存在的上述不足,提供一种具有可绕射光栅点的微结构,通过不同层次的防伪结构搭配不同的辨识方式,可提供不同业者管理其生产或产品之用,同时达到防伪以及管理产品的目的。
本发明要解决的又一技术问题是,针对现有技术存在的上述不足,提供一种具有可绕射光栅点的微结构的膜料的形成方法,可将判读工具直接形成于膜料上,提高大量制造的速度以及良率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是提供一种具有可绕射光栅点的微结构,其包括:包括多个可绕射光栅点的一图样区以及运用于该些可绕射光栅点的多个防伪手段,该图样区包括一不能目视辨识的图样,该些防伪手段包括一影像防伪手段,其中透过一微透镜数组,以辨识该影像防伪手段下的该不能目视辨识的图样的一图样影像。
可选地,该图样区包括多个微小区块单元,每一该微小区块单元包括利用部分该些可绕射光栅点形成的一微小图样,该图样影像由该些微小图样所贡献而被该微透镜数组所辨识。
可选地,该些微小区块单元的维数相同或相异。
可选地,该些防伪手段还包括运用于该些微小区块单元的一深层防伪手段,该深层防伪手段包括于该些可绕射光栅点之间分布的多个留空点,该深层防伪手段使得透过一光学显微镜,该些微小区块单元之间或是该些微小图样不能被辨识。
可选地,该些留空点于该图样区为无光栅的点,或是以镭射直写方式纪录的点,或是以电子束书写方式纪录的点。
可选地,该微透镜数组具有一第一周期,该影像防伪手段包括运用于该些微小区块单元的一第二周期以及一第三周期,该第一周期的大小介于该第二周期以及该第三周期之间,如此使得该图样影像包括相对运动的两部分或是一三维(3D)影像。
可选地,该些防伪手段包括使该些可绕射光栅点的多个光栅角度、多个光栅间距、多个光栅点大小相同或相异。
可选地,该些防伪手段包括使部分该些可绕射光栅点的多条暗纹与其它的可绕射光栅点的多条暗纹错位以形成一叠纹图样。该些防伪手段也可以包括于该些可绕射光栅点之间分布的多个散射点。
本发明还提供一种素材,包括上述的具有可绕射光栅点的微结构,该微结构形成于一高分子层与一反射层之间,其可以更包括位于该高分子层与该反射层之间的一目视可辨识的巨观图样。该目视可辨识的巨观图样包括一油墨印刷图案或是一全像图案。
本发明还提供一种膜料,包括上述具有可绕射光栅点的微结构以及微透镜数组,其中该具有可绕射光栅点的微结构形成于一高分子层与一反射层之间,该微透镜数组形成于一紫外光感光层上,该紫外光感光层位于该高分子层远离该反射层的表面上。此膜料还包括形成于该紫外光感光层上的一目视可辨识的全像图样,也可还包括位于该高分子层与该反射层之间的一目视可辨识的巨观图样。
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