[发明专利]镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件

权利要求书

1.一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：

提供基材；

采用粉末冶金法，以金属铜粉和铁粉为原料制备铜铁复合靶；

采用磁控溅射法，以上述步骤制备的铜铁复合靶为靶材，在基材表面溅射形成铜铁合金层。

2.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述基材的材质为不锈钢或铜合金。

3.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述铜铁复合靶中铜和铁的质量比介于1:4和4:1之间。

4.如权利要求3所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述制备铜铁复合靶的步骤的工艺参数为：金属铜粉的纯度大于99.9%，金属铜粉的粒径为10～50μm；金属铁粉的纯度大于99.9%，金属铁粉的粒径为10～50μm；金属铜粉与金属铁粉的质量比在1:4至4:1之间，该金属铜粉与金属铁粉的混合物被球磨120～200min，热等静压制成一坯体，经1300～1500℃烧结2～2.5h，再自然冷却。

5.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述溅射形成铜铁合金层的步骤的工艺参数为：铜铁复合靶的功率为6～13kw，以氩气为工作气体，氩气流量为100～300sccm，对基材施加-100～-200V的偏压，溅射温度为120～180℃，镀膜时间为30～60min。

6.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：该铜铁合金层的厚度为120～200nm。

7.如权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：该镀膜件的制备方法还包括在溅镀铜铁合金层前对基材进行预处理的步骤。

8.如权利要求7所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述预处理的步骤包括除油、除蜡、酸洗、中和、去离子水清洗及烘干步骤。

9.一种由权利要求1-8中的任一项所述的方法制得的镀膜件。