[发明专利]镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件无效
申请号: | 201110100665.6 | 申请日: | 2011-04-21 |
公开(公告)号: | CN102747333A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;林顺茂 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/14 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 制备 方法 法制 | ||
技术领域
本发明涉及一种镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件。
背景技术
为在基材表面获得合金涂层,常采用热浸镀或热喷涂的方法。金属铜(Cu)和铁(Fe)价格低廉,性能优良,在工业上有着广泛的应用。然而由于铜和铁的混合热为正值,合金熔炼的过程中铜铁合金易发生亚稳相分解(Spinodal分解),分解成富铜相和富铁相;高温急冷时,铜和铁也会发生相分离。由于热浸镀或热喷涂均需要对合金原料进行熔炼,因此采用热浸镀或热喷涂的方法在基材表面较难形成稳定的铜铁合金层。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可形成稳定的铜铁合金层的镀膜件的制备方法。
另外,还有必要提供一种由上述方法所制得的披覆有铜铁合金层的镀膜件。
一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:
提供基材;
采用粉末冶金法,以金属铜粉和铁粉为原料制备铜铁复合靶;
采用磁控溅射法,以上述步骤制备的铜铁复合靶为靶材,在基材表面溅射形成铜铁合金层。
一种镀膜件包括基材及形成于基材上的铜铁合金层,该铜铁合金层采用溅射法形成。
本发明镀膜件的制备方法在形成铜铁合金层时,采用PVD镀膜技术,通过制备铜铁复合靶和对溅射温度的控制,从而于基材表面形成超饱和的铜铁合金层。所述镀膜件的制备方法工艺稳定、可靠且环保。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图。
图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
本发明一较佳实施方式的镀膜件10(如图1所示)的制备方法包括如下步骤:
提供基材11,该基材11的材质可为不锈钢或铜合金。
对基材11进行预处理。该预处理包括常规的除油、除蜡、酸洗、中和、去离子水清洗、烘干等步骤。
请参阅图2,提供一真空镀膜机20,该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30,真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)和相对设置的二铜铁复合靶23。转架带动基材11沿圆形的轨迹25公转,且基材11在沿轨迹25公转时亦自转。
所述铜铁复合靶23中铜和铁的质量比介于1:4和4:1之间。该铜铁复合靶23的制备采用常规的粉末冶金的方法,使用的原料为金属铜粉和金属铁粉,其中金属铜粉的纯度>99.9%,金属铜粉的粒径为10~50μm;金属铁粉的纯度>99.9%,金属铁粉的粒径为10~50μm;按上述配比将金属铜粉及金属铁粉放入一球磨机(未图示)中进行球磨120~200min,使它们混合均匀,然后取一定量的球磨后的混合物进行热等静压制成一坯体,经1300~1500℃烧结2~2.5h,再自然冷却即可。
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