[发明专利]荧光强度校正方法、荧光强度计算方法及计算装置

权利要求书

1.一种荧光强度校正方法，包括以下步骤：

通过光检测器来接收荧光，所述荧光由通过对用多个荧光染料多重标记的微粒照射光而激发的所述多个荧光染料产生，其中所述多个荧光染料具有彼此重叠的荧光波长带，并且其中所述光检测器分别对应于不同的接收光波长带，并且所述光检测器的数量大于所述荧光染料的数量；以及

基于从用所述荧光染料单个标记的微粒获得的单染色光谱的线性总和，对通过从所述多个光检测器收集检测值而获得的测定光谱进行近似。

2.根据权利要求1所述的荧光强度校正方法，其中，基于所述单染色光谱的线性总和的所述测定光谱的近似通过利用最小二乘法进行。

3.根据权利要求2所述的荧光强度校正方法，其中，获得参数a_k(k＝1至m)，从而分别计算由所述荧光染料产生的荧光的强度，在所述参数a_k下，由以下表达式表示的评价函数得到最小值：

χ2≡Σi=1N[yi-Σk=1MakXk(xi)σi]2]]>

其中，X_k(x_i)表示在第k个荧光染料的单染色光谱中的来自第i个光检测器的检测值，y_i表示在所述测定光谱中的来自第i个光检测器的检测值，而σ_i表示来自第i个光检测器的测量值的权重的倒数。

4.根据权利要求3所述的荧光强度校正方法，其中，通过利用法方程或奇异值分解而获得所述参数a_k。

5.根据权利要求1所述的荧光强度校正方法，其中，当所述检测值中包含无效值时，排除所述无效值，并通过利用最小二乘法进行基于所述单染色光谱的线性总和的所述测定光谱的近似。