[发明专利]一种发光膜、其制备方法和应用有效
申请号: | 201110105170.2 | 申请日: | 2011-04-26 |
公开(公告)号: | CN102757785A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | 周明杰;王平;陈吉星;钟铁涛 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C09K11/78 | 分类号: | C09K11/78 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光 制备 方法 应用 | ||
1.一种发光膜,包括氧化锌膜,所述氧化锌膜中掺杂有二价氧化铕和氧化锂,所述二价氧化铕的质量百分含量为0.5-5%,所述氧化锂的质量百分含量为0.1-3%。
2.如权利要求1所述的发光膜,其特征在于,所述二价氧化铕的质量百分含量为1.5-2.5%。
3.如权利要求1所述的发光膜,其特征在于,所述氧化锂的质量百分含量为0.5-1%。
4.如权利要求1所述的发光膜,其特征在于,所述发光膜的厚度为30-300纳米。
5.一种发光膜制备方法,包括如下步骤:
将氧化锌、二价氧化铕及氧化锂混合,得到混合物,所述混合物中二价氧化铕的质量百分含量为0.5-5%,氧化锂的质量百分含量为0.1-3%,将所述混合物烧结后得到溅射靶材;
在基靶间距为50-90毫米、衬底温度为300-600℃、工作气体为氢气与惰性气体的混合气体,气体流量为15-30sccm、压强为0.2-4.5Pa条件下将所述溅射靶材进行溅射处理,得到发光膜前体;
将所述发光膜前体在温度为500-800℃的真空环境中进行退火处理1-3小时,得到发光膜。
6.如权利要求5所述的发光膜制备方法,其特征在于,所述二价氧化铕的质量百分含量为1.5-2.5%;所述氧化锂的质量百分含量为0.5-1%。
7.如权利要求5所述的发光膜制备方法,其特征在于,所述烧结、形成溅射靶材步骤中烧结温度为900-1300℃。
8.如权利要求5所述的发光膜制备方法,其特征在于,所述混合气体中氢气的体积含量为1-15%。
9.如权利要求5所述的发光膜制备方法,其特征在于,所述退火处理步骤中真空度为0.01Pa以上。
10.如权利要求1-4任一项所述的发光膜在阴极射线管、场致发光显示器件、电致发光显示器件中的应用。
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