[发明专利]镀膜件及其制备方法

权利要求书

1.一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的镀层，其特征在于：该镀层为M掺杂的二氧化钛层，其中M为镍、铁及铬中的一种。

2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该基材的材质为玻璃或不锈钢。

3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀层中掺杂的M与钛的原子比为2%~8%。

4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀层为光致变色层。

5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀层采用溅射法形成，其厚度为200~500nm。

6.一种镀膜件的制备方法，其包括如下步：

提供基材；

采用粉末冶金法制备一合金靶，该合金靶中含有金属M和金属钛，其中金属M为镍、铁及铬中的一种；

采用溅射法，并使用上述步骤制备的合金靶，在该基材的表面形成一镀层，该镀层为M掺杂的二氧化钛层。

7.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：该基材的材质为玻璃或不锈钢。

8.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述制备合金靶的步骤的工艺参数为：以金属M粉体及金属钛粉体为原料，将金属M粉体与金属钛粉体按原子比为5~10%的比例混合均匀获得一混合物；采用热压成型法将混合物制成一坯体，成型温度为100~300℃，压力为30~60MPa；烧结该坯体，烧结温度为1300~1800℃，烧结时间为30~60min。

9.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：金属M粉体的纯度为99.99%，粒度为25~50μm，金属钛粉体的纯度为99.99%，粒度为25~50μm。

10.如权利要求6所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：溅射形成所述镀层的步骤的工艺参数为：基材的温度为100~200℃，以氩气为工作气体，氩气的流量为300~500sccm，以氧气为反应气体，氧气的流量为50~200sccm，合金靶的功率为3~5kw，施加于基材的偏压为-100~-200V，镀膜时间为30~90min。