[发明专利]镀膜件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜件及其制备方法。

背景技术

光致变色指的是在具有一定的波长和强度的光的作用下，某些化合物的分子结构发生变化，从而导致其对光的吸收峰值的改变(即颜色的相应改变)，且这种改变一般是可逆的。近年来，将光致变色材料用于光信息存储、光调控、光开关、光学器件材料、光信息基因材料、修饰基因芯片材料等领域受到全球范围内的广泛关注。

目前常用的光致变色涂层多采用有机光致变色材料，有机光致变色材料种类繁多，主要包括：螺毗喃类、偶氮化合物类及二芳基乙烯类。然而，有机光致变色材料本身稳定性较差，易受外部环境(如酸碱腐蚀、盐雾腐蚀、紫外光热等)的影响，进而影响其光致变色效果，这使得有机光致变色材料的进一步广泛使用受到了制约。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种表面披覆有稳定的光致变色涂层的镀膜件的制备方法。

另外，本发明还提供一种由上述方法所制得的镀膜件。

一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的镀层，该镀层为M掺杂的二氧化钛层，其中M为镍、铁及铬中的一种。

一种镀膜件的制备方法，其包括如下步：

提供基材；

采用粉末冶金法制备一合金靶，该合金靶中含有金属M和金属钛，其中金属M为镍、铁及铬中的一种；

采用溅射法，并使用上述步骤制备的合金靶，在该基材的表面形成一镀层，该镀层为M掺杂的二氧化钛层。

本发明镀膜件的制备方法，采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶，在基材表面制得所述镀层。该制备方法工艺简单且绿色环保。所述镀层性能稳定，且具有良好的光致变色效果。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；

图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件10基材11镀层13真空镀膜机20镀膜室21合金靶23轨迹25真空泵30

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施方式的镀膜件10包括基材11、及形成于基材11表面的镀层13。

基材11的材质可为玻璃或不锈钢，但不限于该两种材质。

该镀层13为M掺杂的二氧化钛(TiO₂)层，其中M为镍、铁及铬中的一种，该镀层13中掺杂的M与钛的原子比为2%~8%。该镀层13的厚度为200~500nm。

该镀层13具有光致变色功能，经日光照射，可由无色变为褐色。

本发明一较佳实施方式的镀膜件10(如图1所示)的制备方法包括如下步骤：

提供基材11，基材11的材质可为玻璃或不锈钢，但不限于该两种材质。

对该基材11进行预处理，该预处理可包括除油、除蜡、去离子水喷淋及烘干等步骤。

制备合金靶23，该合金靶23中含有金属M和金属钛，其中金属M为镍、铁及铬中的一种，且该合金靶23中金属M与钛的原子比为5~10%。