[发明专利]密封方法及其装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种密封方法及其装置，将上基板以及下基板搬入到密封装置内，使所搬入的上下基板彼此的对准以及利用紫外线（UV）的照射使预先涂敷在上基板或下基板上的密封材料硬化，由此，使显示功能层介于之间地将上下基板贴合。

背景技术

作为面板显示器的代表例的液晶面板、有机EL面板、电子纸面板等采用使能够进行图像显示用的显示功能层介于一对上下基板间来进行密封的单元结构体。液晶面板中的单元结构体以夹持液晶材料的方式配置有取向膜、透明电极、偏振滤光片等，并且，将上下基板间密封。另一方面，在有机EL面板中，配置由透明电极和有机半导体等构成的显示功能层，将上下基板间密封，利用透明电极使有机半导体直接发光。另外，作为电子纸面板的具有代表性的结构，配置由封入了颜料粒子以及油性材料的微胶囊和透明电极构成的显示功能层，将上下基板间密封。进而，在裸眼式的三维显示器中，在以上述方式构成的液晶面板或者有机EL面板的单元结构体的表面贴附两面凸出的片材（lenticular sheet），得到三维的图像。

图10表示液晶面板的制造装置的现有技术的一例，如该图所示，在形成有透明电极的一对上下基板的一个（下基板50）上呈闭环状地涂敷密封材料51，在由该密封材料51包围的区域散布透明球状的隔离物，并且，滴下液晶材料52。然后，将该下基板50经由弹性片材55载置固定在定位工作台54上，该定位工作台54位于真空腔室53内，并且能够与下基板50面平行地在水平方向上移动地进行支撑。另一方面，在真空腔室53内能够在垂直方向上移动地进行支撑的吸附盘57上吸附固定有上基板56。

接着，对真空腔室53内的空气进行排气（真空抽吸），达到预定的真空度，之后，使吸附盘57下降，在下基板50上的密封材料51以及液晶材料52与上基板56接触的跟前的位置停止，使定位工作台54移动来调整对置的上基板56和下基板50的对准标记的位置关系位，进行上下基板50、56的粗对准处理。

然后，对真空腔室53内的空气进一步进行排气，提高到预定的真空度后，使吸附盘57进一步下降，对上基板56向下基板50侧加压，维持为上基板56和下基板50之间的单元间隙由透明球状的隔离物保持的状态。此时，在上下基板50、56间，下基板50上的密封材料51被压变形，同样地，被压变形的液晶材料52向由密封材料51和上下基板50、56包围的区域扩散，该区域整体被液晶材料52充满。

接着，进行吸气使真空腔室53内恢复到大气压，使定位工作台54移动，从而在大气压中调整对置的上基板56和下基板50的对准标记的位置关系，进行上下基板50、56的精密的对准处理。并且，最后将实施了对准处理的上下基板50、56取出到真空腔室的外部，照射紫外线，使密封材料51硬化，单元结构体的制造工序完成（参照专利文献1）。

另一方面，有机EL面板的有机半导体具有受氧气或湿气的影响而慢慢恶化导致亮度下降的性质，因而提出了除去密封材料中的气泡或水分的方法（参照专利文献2）。在该专利文献2所公开的技术中，具有对由弹性片材分隔而成的第一空间以及第二空间这两个空间进行排气的排气单元，利用该排气单元控制第一空间，使得相对于第二空间为负压，使在两空间产生的差压经由弹性片材作用于密封基板以及元件基板中的一个，从而能够进行两基板的压接。

另外，在液晶面板或有机EL面板的制造工序中，在利用光压法照射紫外线使光硬化型的密封材料硬化的情况下，特别是，当有机半导体被照射紫外线时恶化变得显著，因而一般地在石英的遮光玻璃上形成遮光掩模图案，仅向密封材料照射紫外线（参照专利文献3）。

在该专利文献3所公开的技术中，在形成有光电层的基板的背面侧配置遮光玻璃，为了气密性地覆盖光电层，在使基板和密封构件经由密封材料压接在一起的状态下，从遮光玻璃侧照射紫外线，使密封材料硬化，从而将基板和密封构件接合在一起，因此，对与遮光玻璃基板的接触面实施疏水处理，防止遮光玻璃和基板发生贴附。

上述专利文献3所公开的结构是采用价格极高的石英玻璃的方法，从耐久性等方面考虑存在问题，因此本申请的申请人采用具有柔软性以及透光性的片材构件，在紫外线透过片材上压接成为单元结构体的上侧基板，在紫外线透过片材的透过率低于允许范围的情况下，能够连续供给未使用的部分。并且，以该紫外线透过片材为边界形成能够减压的第一腔室和第二腔室，能够从单元结构体的两面进行压力控制（参照专利文献4）。

专利文献1：日本特开2002-296601号公报。

专利文献2：日本特开2005-276754号公报。