[发明专利]一种金刚线切割硅片的清洗方法有效
申请号: | 201110111779.0 | 申请日: | 2011-04-30 |
公开(公告)号: | CN102225406A | 公开(公告)日: | 2011-10-26 |
发明(设计)人: | 李毕武;唐传兵;刘振淮;黄振飞 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08;B08B3/12;B08B3/02;B08B7/02 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金刚 切割 硅片 清洗 方法 | ||
技术领域
本发明涉及切割硅片的后处理技术领域,特别是一种金刚线切割硅片的清洗方法。
背景技术
目前太阳能硅片的切割普遍使用多线切割机,市场上占有率比较多的是MB、HCT、NTC等.但是由于该切割工艺效率低下,一刀需要7~8h;在切割中需要使用SiC和PEG的混合砂浆,切割后其废砂浆的排放严重污染环境.针对上述问题,目前国际上开发了新型切割工艺,金刚石线切割,其切割速度是普通线切割的2~3倍,切割过程中不需要使用SiC,使用对环境无污染的水性切削液。但是由于其切割原理不同,导致对硅片的表面形貌影响也不一样,如果安正常的硅片清洗,硅片经过碱制绒其金字塔的覆盖率非常小,反射率低,电池转化效率也比较低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种金刚线切割硅片的清洗方法,可以提高硅片碱制绒的金字塔覆盖率、反射率以及电池效率。。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种金刚线切割硅片的清洗方法,金刚线切割的硅片首先经过脱胶粗洗处理,然后进行精洗,
硅片的脱胶粗洗处理经过多道清洗步骤,分别是:
1)在30~50℃水中清洗;
2)在碱性清洗剂中清洗,碱性清洗剂的pH=9~10,温度30~50℃;
3)在30~50℃水中清洗;
4)在50~70℃乳酸中清洗;
5)在30~50℃水中通过清洗;
6)在常温水中清洗;
精洗工艺共经过多道清洗步骤和烘干处理,分别是:
1)在碱性清洗剂中清洗,碱性清洗剂的pH=9~10,温度70~90℃,该清洗步骤,配制1~3道;
2)在40~60℃水中清洗,该清洗步骤,配制1~3道;
3)在60~80℃水中清洗,该清洗步骤,配制1~3道;
4)硅片烘干,该烘干步骤,配制1~3道。
本发明的有益效果是:该金刚线切割硅片清洗工艺方法根本革新在于:通过对硅片清洗液的PH的提高、以及温度的提高,使得其硅片表面更加干净,表面损伤层去除更大,同时对于硅片的碱制绒工艺起到表面活化作用。这样硅片在制绒时,金字塔绒面的覆盖率较高,绒面比较均一。通过金刚线切割硅片清洗工艺方法的调整,硅片的反射率降低了3%左右,电池效率提高了0.3-0.7%。
具体实施方式
一种金刚线切割硅片的清洗方法,该方法如下:
(一)、金刚线切割的硅片按顺序插入硅片花篮,进行脱胶粗洗工艺,粗洗工艺共经过6个水槽清洗,主要是除去硅片表面脏污和胶体,硅片粗洗的工艺步骤如下:粗洗的各步骤处理时间各800秒。
1.在30~50℃水中通过摇动、喷水和超声波清洗,摇动、喷水和超声波清洗就是水槽保持轻微振动,水保持循环同时有超声震荡的清洗方式;
2.在碱性清洗剂中通过摇动、喷水和超声波清洗,碱性清洗剂的pH=9~10,温度30~50℃;
3.在30~50℃水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
4.在乳酸中通过摇动、喷水清洗,乳酸的温度为60℃;
5.在40℃水中通过摇动、喷水清洗;
6.在常温水中摇动清洗;
(二)、经过脱胶后的硅片进行精洗工艺,精洗工艺共经过7个水槽清洗和两步烘干处理,主要目的是除去硅片表面损伤层,硅片精洗的工艺步骤如下:精洗的各步骤处理时间各300秒。
1.在碱性清洗剂中通过摇动、喷水和超声波清洗,碱性清洗剂的pH=9~10,温度70~90℃;
2.在碱性清洗剂中通过摇动和超声波清洗,碱性清洗剂的pH=9~10,温度70~90℃;
3.在40~60℃水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
4.在40~60℃水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
5.在60~80℃纯水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
6.在60~80℃纯水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
7.在60~80℃纯水中通过摇动、喷水和超声波清洗;
8.在100℃温度下摇动烘干;
9.在150℃温度下摇动烘干。
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