[发明专利]锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法

权利要求书

1.用作锂离子电池负极的锡钛薄膜的磁控溅射制备方法，其特征在于，使用纯锡和纯钛两个靶交替溅射或者共溅射制备锡钛薄膜，然后在室温至300℃间保持0-6h退火处理。

2.根据权利要求1所述的锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)选用清洗好的金属铜箔或者不锈钢片作为基片。

(2)在磁控溅射腔体内安装纯锡金属靶和纯钛金属靶，然后使腔体真空度在1.0×10^-3Pa以上，再通入纯度在99.99％以上的氩气，调节溅射腔体内气压在0.1-10.0Pa之间。

(3)磁控溅射制备锡钛薄膜，每个靶电源的电流为100-350mA，电压为500-1500V，溅射时间在5min-180min范围之内。

(4)将溅射完毕的薄膜样品在溅射腔体内原位退火，退火温度在室温至300℃之间，退火时间在0-6h之内。

3.根据权利要求1所述锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法，其特征在于，所述的纯锡、纯钛靶材的纯度大于99.9％。

4.根据权利要求1所述锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法，其特征在于，所述磁控溅射类型为直流磁控溅射或者射频磁控溅射，具体溅射方式为两靶交替溅射或者共溅射。

5.根据权利要求1所述锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法，其特征在于，所述两靶交替溅射方式既可以是先溅射锡层，也可以是先溅射钛层，交替溅射次数可以大于1，形成锡钛叠层膜。膜的总厚度在0.1-20.0μm之间。

6.根据权利要求1所述锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法，其特征在于，所述共溅射制备的锡钛薄膜度在0.1-20.0μm之间。