[发明专利]触控面板及其制造方法

权利要求书

1.一种触控面板制造方法，其特征在于，步骤包括：

A.在一透明基板上涂布一氧化铟锡薄膜，以及在该氧化铟锡薄膜上涂布一铜金属薄膜；

B.在前述铜金属薄膜上涂布一光阻层，并将该光阻层曝光及显影后，以蚀刻方式在前述氧化铟锡薄膜及铜金属薄膜上各形成一电极图案，以及一走线图案连接该电极图案；

C.去除该光阻层；

D.在前述基板的走线图案上涂布一抗蚀膜，并利用特定溶剂溶解未涂布该抗蚀膜的铜金属薄膜；

E.去除该抗蚀膜。

2.如权利要求1所述的触控面板制造方法，其特征在于：在步骤B中，利用前述光阻层的阻障，经曝光、显影及蚀刻后，在该基板的一中央可视区形成前述电极图案，以及在该中央可视区外缘的一动作区形成前述走线图案。

3.如权利要求2所述的触控面板制造方法，其特征在于：利用前述光阻层的阻障，经曝光、显影及蚀刻后，该走线图案形成一电讯号输出线路及一控制讯号输入线路。

4.如权利要求1所述的触控面板制造方法，其特征在于：步骤D先在前述基板上涂布该抗蚀膜，再以曝光及显影方式去除覆盖该走线图案以外的抗蚀膜。

5.如权利要求1或3所述的触控面板制造方法，其特征在于：在步骤E之后，还有一步骤F，将一讯号转换单元连接至前述电讯号输出线路。

6.如权利要求1所述的触控面板制造方法，其特征在于：步骤D所述的特定溶剂是指硫酸铵溶液或酸碱值为9.5至12的弱碱性蚀刻液。

7.如权利要求1所述的触控面板制造方法，其特征在于：前述透明基板为薄膜基板，在前述各步骤中薄膜基板为整卷式生产。

8.一种使用权利要求1所述方法制成的触控面板，其特征在于，包括：一透明基板，该透明基板上包含有一电极图案及连接该电极图案的一走线图案，其中该电极图案为氧化铟锡薄膜层，该走线图案包含氧化铟锡薄膜层及叠置在该氧化铟锡薄膜层上的铜金属薄膜层。

9.一种使用权利要求2所述方法制成的触控面板，其特征在于，包括：一透明基板，该透明基板区隔出一中央可视区及该中央可视区外缘的一动作区，在该中央可视区上包含有一电极图案，在该动作区上包含有一走线图案连接该电极图案，其中该电极图案为氧化铟锡薄膜层，该走线图案则包含氧化铟锡薄膜层及迭置在该氧化铟锡薄膜层上的铜金属薄膜层。

10.一种使用权利要求3所述方法制成的触控面板，其特征在于，包括：一透明基板，该透明基板区隔出一中央可视区及该中央可视区外缘的一动作区，在该中央可视区上包含有一电极图案，在该动作区上包含有一走线图案连接该电极图案，该走线图案包含有一电讯号输出线路及一控制讯号输入线路，其中该电极图案为氧化铟锡薄膜层，该走线图案包含氧化铟锡薄膜层及叠置在该氧化铟锡薄膜层上的铜金属薄膜层。