[发明专利]一种设有溢流结构的玻璃熔窑

权利要求书

1.一种设有溢流结构的玻璃熔窑，包括可熔制玻璃液的熔窑主体，其特征在于：所述熔窑主体的工作部上设置有溢流结构，所述溢流结构包括溢流口和设置于所述溢流口处的流量控制组件，所述溢流口开设于所述熔窑主体的工作部上。

2.如权利要求1所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述流量控制组件包括流量控制闸板和用于驱动所述流量控制闸板的驱动构件。

3.如权利要求2所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述熔窑主体包括熔化池和设置于所述熔化池侧面的溢流室，所述溢流室与所述熔化池相连通，所述溢流口开设于所述溢流室的底部，所述流量控制闸板滑动穿设于所述溢流室的上部，所述流量控制闸板的下端正对于所述溢流口。

4.如权利要求2所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述驱动构件通过齿轮齿条传动结构或丝杠螺母传动结构或液压传动结构驱动所述流量控制闸板相对溢流口上下滑动。

5.如权利要求2至4中任一项所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述控制组件还包括用于测定和调节所述流量控制闸板的位移测量装置。

6.如权利要求5所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述位移测量装置包括一设有刻度的标尺。

7.如权利要求2至4中任一项所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述流量控制闸板呈“T”字形，所述流量控制闸板采用α-β刚玉砖或者熔融石英材料制成。

8.如权利要求1至4中任一项所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述溢流结构设置有二个，分别设置于所述熔窑主体尾部的工作部左右两侧，所述溢流口下方设置有淬冷装置，所述淬冷装置包括位于所述溢流口下方且可容置淬冷介质的淬冷池和流道，所述流道倾斜设置且连接于溢流口与淬冷池之间。

9.如权利要求8所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述淬冷装置上还设置有用于冷却所述淬冷介质的循环装置。

10.如权利要求2至4中任一项所述的一种设有溢流结构的玻璃熔窑，其特征在于：所述溢流室包括内层的耐热层和外层的支撑层，所述耐热层采用电熔锆刚玉砖砌成，所述支撑层为用不锈钢材料制成；所述耐热层与支撑层之间设置有保温砖层。