[发明专利]用于不锈载体盘的抛光液及使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抛光液的配方，特别涉及到用于磨削玻璃制品的抛光液。 

本发明还涉及一种抛光液的使用方法，特别涉及到用于磨削玻璃制品的抛光液的使用方法。 

背景技术

目前在哥本哈根全球气候大会上提出的全球低碳经济的号召，大功率LED照明成为全球炙手可热的节能法宝，眼下各国纷纷开展HB-LED项目，该项目的关键组件蓝宝石外延基片成为限制氮化镓(GAN)生长的关键因素，谁能得到充足的基片供应，就决定了谁能在高亮度LED项目中取得先机。传统的蓝宝石加工所需的时间是相当长的，通过对抛光液的配置进行优化，很大程度上能够提高蓝宝石衬底基片加工的速率和一次性良品率，从而实现能够稳定地制备无损伤层的超光滑蓝宝石晶片。 

发明内容

本发明提供一种抛光液，它可以提高抛光速度，减少对被抛光物的损坏。 

为完成上述发明目的，本发明是这样实现的：一种用于不锈载体盘的抛光液，其特征在于，它包括以下成分：采用32nm左右的均匀性较强的二氧化硅溶胶作为主要原料配入带有羟基和双胺基的有机碱使之溶液的PH值控制在10～12之间；加入1％-2％的表 面活性剂；配制成的抛光液浓度控制在20％-23％；并保持工作温度在30-40度左右。 

本配方中，介质选用32nm大小颗粒，通过我们长期的实验，做对于玻璃晶体加工时，以往选用的是30nm，这种介质在抛磨时，对于物体表面的损伤，理论上是小于32nm大小的介质的，但是在通过将PH值升高后，由于在30nm的介质会产生集团现像，从使部分的介质产生重组，从而对于抛光产生影响，当选用了32nm的二氧化硅溶胶后便不会产生分子重组现像。介质应选用碱性介质，因为蓝宝石的化学性质呈两性：在酸性介质中，反应产物易溶解，氧化剂的氧化力较强，但是过强的氧化性易造成非均匀化腐蚀，影响局部平整度，且一般的抛光设备都是由金属制成，酸性介质会腐蚀设备，对晶片造成污染而其在碱性介质下，氧化剂的氧化能力较弱，但是，由于碱性介质不会腐蚀设备，不污染环境，并且在碱性条件下二氧化硅溶胶的稳定性好，同时高PH值能够有效防止二氧化硅溶胶沉淀，这是由于二氧化硅主要是以原硅酸根离子和偏硅酸根离子的形式存在，并且都带负电荷，故不易发生凝胶。当PH值处于10～12之间时，既可防止沉淀产生，又可增强抛光中的化学作用，从而提高抛光速率。但当PH值过大时，抛光速率反而呈下降的趋势。 

对上述技术方案作进一步的改进，在上述配方中加微量的洗洁精。在使用过程中，通过长时间的磨擦会产生一定的杂质，这时会了消除这些杂质，另外加入洗洁剂后可以增加抛光液的悬浮率。 

本发明的第二个发明目的是，提供上述抛光液的使用方法，首先将抛光液进行预热，预热至30摄氏度；经过设备注入至磨光装置中；磨削过程中监测抛光液的温度；当抛光液温度大于40度时，通过冷却设备进行冷却使其回到30-40摄氏度。本专利提供的将抛光液加温的方法，然后再使用，该方法适用于超薄型晶体玻璃的研磨；在超薄型晶体玻璃过程；大多数情下是二次加，也就是在原来已经很薄的玻璃上进行加工的；这些玻璃对抛光液的温度反应会很敏感，因此，要让抛光液一直工作在最佳状态。通过实验证明，其抛光液的温度应当在40度。 

对上述技术方案作进一步的进改，当抛光液表面出现悬浮物时，加入0.25％-1％的洗洁精。研磨过程中会出现悬浮物，这些均是研磨时产生的杂质，这时，注入一定的洗洁精可以减少悬浮物，同时还要可以加大抛光液的整体悬浮率。从而有利于下层研磨杂质的排放。 

具体实施方式

一种用于不锈载体盘的抛光液，它包括以下成分：采用32nm左右的均匀性较强的二氧化硅溶胶作为主要原料配入带有羟基和双胺基的有机碱使之溶液的PH值控制在10～12之间；加入1％-2％的表面活性剂；配制成的抛光液浓度控制在20％-23％；并保持工作温度在30-40度左右。 

在使用过程中，首先将抛光液进行预热，预热至30摄氏度；经过设备注入至磨光装置中；磨削过程中监测抛光液的温度；当抛光 液温度大于40度时，通过冷却设备进行冷却使其回到30-40摄氏度。在研磨至30分钟至一小时后，在再次加入的抛光液中放入0.25％-1％的洗洁精。