[发明专利]照射系统和光刻设备

权利要求书

1.一种照射系统，包括：

单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的；和

控制器，用以控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成施加力至所述一个或多个元件，其至少部分地补偿通过入射到所述一个或多个元件的辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力。

2.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述控制器配置成以与通过所述辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力基本上同步的方式施加力。

3.根据权利要求1或2所述的照射系统，其中，所述控制器配置成响应于触发信号施加力至所述一个或多个元件。

4.根据权利要求3所述的照射系统，还包括光学检测器，其配置成当光学检测器接收辐射猝发串时生成触发信号。

5.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述控制器配置成在所述辐射猝发串入射到所述一个或多个元件之前施加力至所述一个或多个元件，以便将所述一个或多个元件移动至偏置取向，由此通过由所述辐射猝发串施加的力将所述一个或多个元件移动至想要的取向。

6.根据前述权利要求1-5中任一项所述的照射系统，其中，所述控制器配置成当所述辐射猝发串入射到所述一个或多个元件上时监测所述一个或多个元件的取向，并且配置成当所述辐射猝发串没有入射到所述一个或多个元件上时不监测所述一个或多个元件的取向。

7.一种光刻设备，包括如权利要求1-6中任一项所述的照射系统，并且还包括：

支撑结构，配置成支撑图案形成装置，所述图案形成装置配置成根据想要的图案图案化从照射系统提供的辐射束；

衬底台，配置成保持衬底；和

投影系统，配置成将图案化束投影到衬底的目标部分上。

8.根据权利要求3和7中任何一项所述的光刻设备，其中，所述光刻设备包括源控制电子器件，所述源控制电子器件配置成生成触发通过辐射源的辐射猝发串的生成的信号，并且其中所述控制器使用该信号作为触发信号。

9.一种照射系统，包括：

单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的；和

控制器，用以控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成在辐射猝发串入射到所述一个或多个元件之前移动所述一个或多个元件至偏置取向，所述偏置取向被选择成使得通过所述辐射猝发串施加的力将所述一个或多个元件移动至想要的取向。

10.根据权利要求9所述的照射系统，其中，所述控制器配置成在辐射猝发期间将所述一个或多个元件保持在想要的取向，并且随后在所述辐射猝发串结束之后将所述一个或多个元件返回至偏置取向。

11.一种在照射系统中选择想要的照射模式的方法，所述方法包括将单独可控光学元件阵列中的多个元件移动至与想要的照射模式相对应的取向，并且施加力至一个或多个所述元件，其至少部分地补偿通过辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，以与通过所述辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力基本上同步的方式施加所述补偿的力至所述一个或多个元件。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述辐射猝发串入射到所述一个或多个元件之前将所述补偿的力施加至所述一个或多个元件，以便将所述一个或多个元件移动至偏置方向，由此通过由所述辐射猝发串施加的力将所述一个或多个元件移动至想要的取向。

14.一种照射系统，包括单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的，其中一个或多个元件被电离的气体包围。

15.一种在照射系统中选择想要的照射模式的方法，所述方法包括将单独可控光学元件阵列中的多个元件移动至与想要的照射模式相对应的取向，所述元件被电离的气体包围。