[发明专利]照射系统和光刻设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种照射系统和一种光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，所述图案通过成像被转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

光刻设备通常包括照射系统。照射系统接收来自源的辐射，例如激光器的辐射，并且产生适于照射图案形成装置的辐射束。在通常的照射系统内，辐射束被成形并且被控制成使得在光瞳面处辐射束具有想要的空间强度分布，也称为照射模式。照射模式的类型的实施例是传统的、双极的、非对称的、四极的、六极的以及环形的照射模式。在光瞳面处的空间强度分布有效地用作次级辐射源以产生辐射束。在光瞳面后面，通常通过下文中称为“耦合光学元件”的光学元件(例如透镜)组聚焦辐射。耦合光学元件将聚焦的辐射耦合到诸如石英棒等积分器。积分器的功能是提高辐射束的空间和/或角度强度分布的均匀性。光瞳面处的空间强度分布被转换成在积分器处的角度强度分布，因为光瞳面基本上与耦合光学元件的前焦面重合。

可以实现控制光瞳面处的空间强度分布，以在图案形成装置的图像被投影至衬底上时改善工艺宽容度。具体地，已经提出在双极的、环形的或四极的离轴照射模式情况下的空间强度分布，以提高投影的分辨率和/或其他参量，例如对投影系统像差的敏感性、曝光宽容度以及焦深。

发明内容

期望地，提供一种照射系统和光刻设备，与例如现有技术的光刻设备相比，其能够以提高的稳定性控制空间强度分布。

根据本发明的一方面，提供一种照射系统，包括：单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的；和控制器，用以控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成施加力至所述一个或多个元件，其至少部分地补偿通过入射到所述一个或多个元件上的辐射猝发串施加至所述一个或多个元件的力。

根据本发明的一方面，提供一种照射系统，包括：单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的；和控制器，用于控制一个或多个元件的取向，所述控制器配置成在辐射猝发串入射到所述一个或多个元件之前将所述一个或多个元件移动至偏置取向，所述偏置取向被选择成使得辐射猝发串施加的力将所述一个或多个元件移动至想要的取向。

根据本发明的一方面，提供一种在照射系统中选择想要的照射模式的方法，所述方法包括：将单独可控光学元件阵列的元件移动至与想要的照射模式相对应的取向，并且将力施加至一个或多个元件，其至少部分地补偿由辐射猝发串施加至所述一个或多个元件上的力。

根据本发明的一方面，提供一种照射系统，包括：单独可控光学元件阵列，每个元件在能够被选择以便形成想要的照射模式的多个取向之间是可移动的，其中一个或多个元件被电离的气体包围。

根据本发明的一方面，提供一种在照射系统中选择想要的照射模式的方法，所述方法包括：将单独可控光学元件阵列的元件移动至与想要的照射模式相对应的取向，所述元件被电离的气体包围。

附图说明

现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：

图1示意地示出了根据本发明一个实施例的光刻设备；

图2示出了根据本发明一个实施例的照射系统；和

图3详细地示出图2中的照射系统的反射元件。

具体实施方式

图1示意地示出了根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括：

照射系统(也称为照射器)IL，其配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或深紫外(DUV)辐射)；