[发明专利]一种电子束分次熔炼提纯多晶硅的方法有效

专利信息
申请号: 201110125904.3 申请日: 2011-05-16
公开(公告)号: CN102145893A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 谭毅;战丽姝;邹瑞洵;郭校亮 申请(专利权)人: 大连隆田科技有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 大连星海专利事务所 21208 代理人: 于忠晶
地址: 116025 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子束 熔炼 提纯 多晶 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于用物理冶金技术提纯多晶硅的技术领域,特别涉及一种利用电子束进行熔炼去除多晶硅中杂质磷的方法。

背景技术

在能源紧缺、倡导低碳环保的社会,太阳能作为一种环保新能源,具有重大的应用价值。太阳能电池可以将太阳能转换为电能,而太阳能级多晶硅材料又是太阳能电池的重要原料,因此,太阳能级多晶硅材料的制备技术尤其重要。目前,世界范围内制备太阳能级多晶硅材料的主要技术路线有:改良西门子法,硅烷法,冶金法。其中改良西门子法的原理就是在1100℃左右的高纯硅芯上用高纯氢还原高纯三氯氢硅,生成多晶硅沉积在硅芯上。但是改良西门子法能耗高、污染严重,属于欧美淘汰的旧技术。硅烷法就是硅烷(SiH4)热分解制备多晶硅的方法,但是该工艺生产操作时危险性大(硅烷易燃易爆)、综合生产成本较高。冶金法主要包括:电子束熔炼法、等离子束熔炼法、定向凝固法、造渣法、电解法、碳热还原法等。

相比而言冶金法具有生产周期短、污染小、成本低的特点,是各国竞相研发的重点。电子束应用于冶金熔炼中,用于熔化提纯材料,已知申请号为200810011631.8的发明专利,利用电子束进行熔炼去除多晶硅中的杂质磷,但是此电子束熔炼过程中,电子束持续较大束流熔炼多晶硅,此过程中不仅硅蒸发量较大,而且大束流持续熔炼产生的大量硅蒸气将阻碍磷杂质的挥发,使得磷杂质回流,不利于杂质的去除。

发明内容

本发明的目的是克服上述不足问题,提供一种电子束分次熔炼提纯多晶硅的方法,利用电子束小束流分多次进行熔炼,从而更好的去除多晶硅中的杂质磷,将多晶硅中的杂质磷去除到0.00003%以下的程度,进而达到太阳能电池用硅材料的使用要求。

本发明采用的技术方案是:一种电子束分次熔炼提纯多晶硅的方法,首先备料:将洗净烘干后的硅料置于电子束熔炼炉中;再预处理:对坩锅水冷、电子枪预热;最后提纯:采用以200-300mA的小束流电子束熔化并熔炼一段时间,然后降低束流为零,待硅锭完全变暗,硅蒸气回凝入熔池后,再次以200-300mA的小束流熔炼多晶硅一段时间后停止束流,重复小束流熔炼和停止束流的操作多次,最后冷却凝固即可得到磷含量很低的多晶硅锭。

所述提纯:打开电子枪的高压和束流,稳定后用电子枪以200-300mA束流轰击高磷含量的多晶硅料,熔化后熔炼5-10min,降低束流为0mA,待硅锭完全变暗之后,再次将电子枪的束流调节至200-300mA进行熔化,熔化后熔炼5-10min,再次降低束流为0mA,再重复200-300mA束流电子束熔化后熔炼5-10min及降束流为0mA的操作3-5次,最后关闭束流,硅液冷却凝固成硅锭,继续抽真空15-30分钟,打开放气阀放气,打开真空盖,即可得到磷含量很低的多晶硅锭。

所述备料:取一定量高磷含量的多晶硅料,用去离子水清洗4-5次,放入烘干箱中50℃温度下烘干,将此多晶硅料放入电子束熔炼炉内的熔炼坩埚中。

所述预处理:用真空泵组将电子束熔炼炉真空抽至0.002Pa以下;对底部带冷却的熔炼坩埚进行水冷,温度维持在25-45℃;预热电子枪,设置高压为28-30kV,高压预热5-10分钟后,关闭高压,电子枪束流设置为100-200mA,进行预热,预热10-15分钟后,关闭电子枪束流。

本发明的显著效果是采用了电子束分次熔炼的技术,所谓电子束分次熔炼是指,电子束小束流熔化熔炼多晶硅一段时间后停止束流,待硅锭变暗,硅蒸气回凝入熔池后,再次以小束流熔炼多晶硅一段时间后停止束流,重复小束流熔炼和停止束流的操作多次,最后冷却凝固得到磷含量很低的多晶硅的方法。此方法一方面降低硅的蒸发损失量,另一方面,由于大束流持续熔炼产生的大量硅蒸气将阻碍杂质磷的挥发,使得杂质磷回流重新进入硅熔体,这将减小杂质磷的去除效率,此方法将有效提高杂质磷的去除效率,并将杂质磷的含量降到更低的程度,以满足太阳能级硅的使用要求。此方法提纯效果好,技术稳定,工艺简单,节能降耗,周期短,生产效率高。

附图说明

附图1为一种电子束分次熔炼提纯多晶硅的方法的流程图。

具体实施方式

下面结合具体实施例和附图1详细说明本发明,但本发明并不局限于具体实施例。

实施例1

第一步备料:取500g磷含量为0.001%的多晶硅料,用去离子水清洗4次,放入烘干箱中50℃温度下烘干,将此多晶硅料放入电子束熔炼炉内的熔炼坩埚中;

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