[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法无效
申请号: | 201110126449.9 | 申请日: | 2011-05-13 |
公开(公告)号: | CN102253535A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 永泽耕一 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333;G02B1/12 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 武玉琴;陈桂香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,其包括:
第一透明基板,其具有包括显示区域和周边区域的表面,所述周边区域包围所述显示区域并包括配线图案形成区域和配线图案非形成区域;
配线图案,其形成在所述配线图案形成区域上方,具有遮光能力;
结构体,其在所述周边区域上方形成为使所述配线图案非形成区域露出并覆盖所述配线图案;
密封材料,其在所述周边区域上方形成为覆盖所述配线图案非形成区域并包围所述结构体;
显示层,其形成在所述显示区域上方;和
第二透明基板,其形成在所述结构体、所述密封材料和所述显示层上方。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中
所述周边区域包括第一配线图案形成区域和第二配线图案形成区域,所述第二配线图案形成区域的宽度大于所述第一配线图案形成区域的宽度,
在所述第一配线图案形成区域上方形成第一配线图案,在所述第二配线图案形成区域上方形成第二配线图案,以及
所述结构体形成为使所述第一配线图案露出并覆盖所述第二配线图案。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中
在所述结构体与所述第二透明基板之间以及所述密封材料与所述第二透明基板之间形成遮光层。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中
将抗蚀剂用作所述结构体的材料。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中
所述抗蚀剂是正性抗蚀剂。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中
将液晶层用作所述显示层。
7.根据权利要求1所述的显示装置,其中
将具有光固化特性的树脂用作所述密封材料。
8.一种显示装置的制造方法,所述方法包括下述步骤:
在第一透明基板的表面侧上方形成正性光致抗蚀剂层,所述第一透明基板具有包括显示区域和周边区域的表面,所述周边区域包围所述显示区域,在所述周边区域上方形成有具有遮光能力的配线图案,所述正性光致抗蚀剂层覆盖所述周边区域;
通过将所述配线图案用作掩模,使用来自后表面侧的光对上方形成有所述正性光致抗蚀剂层的所述第一透明基板进行照射,曝光所述正性光致抗蚀剂层;
通过对经曝光的所述正性光致抗蚀剂层进行显影并选择性地保留位于所述配线图案上方的所述正性光致抗蚀剂层来形成结构体;
在上方形成有所述结构体的所述第一透明基板的所述周边区域的上方形成包围所述结构体的密封材料;
通过使第二透明基板隔着所述结构体和所述密封材料堆叠在所述第一透明基板的所述表面的上方来形成堆叠体;以及
使用来自所述第一透明基板的所述后表面侧的光照射所述堆叠体,固化所述密封材料。
9.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法,还包括下述步骤:
通过掩膜,使用来自所述表面侧的光对上方形成有所述正性光致抗蚀剂层的所述第一透明基板进行照射,选择性地曝光所述正性光致抗蚀剂层。
10.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法,其中
在所述显示区域上方形成具有遮光能力的遮光图案,
所述正性光致抗蚀剂层形成为覆盖所述周边区域和所述遮光图案,以及
通过对经曝光的所述正性光致抗蚀剂层进行显影并选择性地保留位于所述配线图案和所述遮光图案上方的所述正性光致抗蚀剂层来形成所述结构体、间隔件和取向核。
11.根据权利要求10所述的显示装置的制造方法,还包括下述步骤:
对位于所述遮光图案上方的所述正性光致抗蚀剂层进行部分曝光。
12.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法,还包括下述步骤:
在所述显示区域上方形成显示层,
其中,将液晶层用作所述显示层。
13.根据权利要求12所述的显示装置的制造方法,其中
通过滴入液晶材料来形成所述液晶层。
14.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法,其中
用于从所述第一透明基板的所述后表面侧照射所述堆叠体的所述光是紫外光。
15.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法,其中
将具有光固化特性的树脂用作所述密封材料。
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