[发明专利]显示装置和显示装置的制造方法

说明书

相关申请的交叉参考

本申请包含与2010年5月21日向日本专利局提交的日本在先专利申请JP 2010-116916的公开内容相关的主题，在这里将该在先申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明涉及显示装置和显示装置的制造方法。具体地，本发明涉及具有两个彼此相对的透明基板和形成在两个透明基板之间的显示层的显示装置以及该显示装置的制造方法。

背景技术

目前存在一种具有两个彼此相对的透明基板和形成在两个透明基板之间的显示层的显示装置。这类显示装置的示例包括下述液晶显示装置：该液晶显示装置具有通过在透明基板上以阵列形式形成多个诸如薄膜晶体管(TFT)之类的晶体管而获得的阵列基板、通过在透明基板上形成滤色器而获得的滤色器基板、以及形成在阵列基板和滤色器基板之间的液晶层。

在液晶显示装置中，在阵列基板和滤色器基板的周边区域中形成密封材料，以便使阵列基板和滤色器基板彼此接合。在通过密封材料使阵列基板和滤色器基板彼此接合之后，使用紫外(UV)光照射密封材料以使其固化。

还存在如下液晶显示装置：在该液晶显示装置中，例如，为了减小液晶显示装置的尺寸，密封材料布置成与形成在滤色器基板的周边区域中的黑色阻光部重叠。在这类液晶显示装置中，由于黑色阻光部具有遮光能力，所以不能从滤色器基板侧使用紫外光照射密封材料，而必须从阵列基板侧进行照射。

在从阵列基板侧进行紫外光照射的这类液晶显示装置中，形成在阵列基板的周边区域中的周边电路图案遮挡了紫外光。因此，位于与周边电路图案重叠的区域中的密封材料可能无法被紫外光充分照射，从而仍处于非固化状态。在这种情况下，未固化的密封材料可能溶出到液晶层中，产生诸如斑点和老化(burn-in)之类的显示缺陷。

对于解决这类问题的技术，目前披露了一种如下技术：从液晶层侧朝密封构件的外侧方向连续设置在阵列基板上的阵列配线形成为裂缝(slit)形式，以由此进行充分照射UV光(紫外光)的UV密封，从而防止UV密封溶出到液晶层(例如参见日本公开专利申请No.2007-233029)。

但是，形成为裂缝形式的阵列配线的形成方法可能显著地限制了阵列配线的设计灵活性。在具有两个彼此相对的透明基板和形成在两个透明基板之间的显示层的其它显示装置中，例如，在两个透明基板之间形成有机EL膜的有机电致发光(EL)显示装置中，也可能类似地产生上述问题。

发明内容

鉴于上述问题，本发明旨在提供一种能够在保持形成在透明基板上的配线的设计灵活性的同时提高显示质量的显示装置和该显示装置的制造方法。

本发明的实施例提供了下述显示装置和显示装置的制造方法。

所述显示装置包括：第一透明基板，其具有包括显示区域和周边区域的表面，所述周边区域包围所述显示区域并包括配线图案形成区域和配线图案非形成区域；配线图案，其形成在所述配线图案形成区域上方，具有遮光能力；和结构体，其在所述周边区域上方形成为使所述配线图案非形成区域露出并覆盖所述配线图案。此外，所述显示装置还包括：密封材料，其在所述周边区域上方形成为覆盖所述配线图案非形成区域并包围所述结构体；显示层，其形成在所述显示区域上方；和第二透明基板，其形成在所述结构体、所述密封材料和所述显示层上方。

所述显示装置的制造方法包括下述步骤：在第一透明基板的表面侧上方形成正性光致抗蚀剂层，所述第一透明基板具有包括显示区域和周边区域的表面，所述周边区域包围所述显示区域。在所述周边区域上方形成有具有遮光能力的配线图案，所述正性光致抗蚀剂层覆盖所述周边区域。此外，所述方法还包括下述步骤：通过将所述配线图案用作掩模，使用来自后表面侧的光对上方形成有所述正性光致抗蚀剂层的所述第一透明基板进行照射，曝光所述正性光致抗蚀剂层；以及通过对经曝光的所述正性光致抗蚀剂层进行显影并选择性地保留位于所述配线图案上方的所述正性光致抗蚀剂层来形成结构体。另外，所述方法还包括下述步骤：在上方形成有所述结构体的所述第一透明基板的所述周边区域的上方形成包围所述结构体的密封材料；通过使第二透明基板隔着所述结构体和所述密封材料堆叠在所述第一透明基板的所述表面的上方来形成堆叠体；以及使用来自所述第一透明基板的所述后表面侧的光照射所述堆叠体，固化所述密封材料。

根据本发明实施例的所述显示装置和所述显示装置的制造方法能够在保持形成在透明基板上的配线的设计自由度的同时提高显示质量。

附图说明

图1是表示根据第一实施例的显示装置的一个示例的剖面图；