[发明专利]高可靠性电源钳位ESD保护电路有效

专利信息
申请号: 201110129544.4 申请日: 2011-05-18
公开(公告)号: CN102185305A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 陆光易;王源;贾嵩;张钢刚;张兴 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可靠性 电源 esd 保护 电路
【说明书】:

技术领域

发明涉及集成电路芯片静电放电(Electronic Static Discharge,ESD)保护技术领域,特别涉及一种高可靠性电源钳位ESD保护电路。

背景技术

在集成电路芯片制造、封装、测试、运输以及使用的过程之中,存在着多种不同的静电放电模式,当这些静电电荷积累在MOS晶体管的栅极上时,由于MOS晶体管的栅电容很小,这些静电电荷会形成很大的等效栅压,导致器件或者电路的失效,这便是ESD问题。伴随着集成电路特征尺寸按比例缩小的规律,栅氧化层做得越来越薄,这样导致了ESD保护问题在纳米尺度的器件和电路设计之中变得越发的困难和重要。

集成电路的芯片主要通过输入管脚、输出管脚、电源管脚以及接地管脚与外界相联系,输入输出管脚通常会有相应的ESD保护电路模块。芯片的核心功能模块一般会置于电源管脚和接地管脚之间,所以,一个可靠的电源钳位ESD保护电路是保证芯片功能模块不受到ESD损伤的关键。已有的电源钳位ESD保护电路通常是基于这样一个思路:用一个电阻-电容(R-C)滤波结构作为ESD探测电路,当探测到ESD脉冲时,滤波结构给出一个信号来打开钳位晶体管,然后由钳位晶体管释放掉ESD电荷。

图1所示为目前电源钳位ESD保护电路的一个经典例子,图中的Mbig为钳位晶体管。当一个快速上升的ESD脉冲来临的时候,通过适当R-C时间常数的设置,使得R和C的交点的电压无法立即跟随电源管脚Vdd上拉,这样R和C的交点在ESD脉冲来临的前一段特定时间内为低电平,这个低电平通过一级反相器传导到Mbig的栅极,使得Mbig的栅极为高电平,于是Mbig被打开以释放ESD脉冲积累的电荷。当R-C时间常数过去之后,R和C的交点的电压跟上了Vdd的变化而成为高电平,这个高电平被反相到Mbig的栅极,于是Mbig被关断,结束ESD保护过程。在正常上电的情况下,Vdd的电压以一个相对较慢的速度上拉,这时R和C的交点一直跟随Vdd的电压变化,使得Mbig不被打开,在正常工作的情况下不消耗额外的电源功耗。

图1所示的电路尽管从逻辑上看是没有问题的,但是随着器件尺寸的缩小,其ESD保护性能的可靠性面临巨大的挑战。集成电路特征尺寸的不断缩小必然要求ESD保护模块的R-C部分要尽量做小,由于Mbig的栅压是在R-C时间常数过去之后才被拉低,R-C时间常数的减小就会导致Mbig开启时间的缩短,这样有可能导致ESD电荷释放不完全从而造成内部电路的损伤。另外一个方面,对于快速上升的正常上电电压,希望钳位晶体管不被打开,即ESD保护电路不被误触发,那么防误触发能力强的ESD保护电路也要求把R-C时间常数做得很小,这同样会与钳位晶体管足够长的开启时间相矛盾。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是:如何在ESD保护电路中电容-电阻模块的时间常数很小的情况下,使钳位晶体管有足够长的开启时间。

(二)技术方案

为解决上述技术问题,本发明提供了一种高可靠性电源钳位ESD保护电路,其特征在于,包括:依次连接的电容-电阻模块、钳位晶体管开启模块、以及钳位晶体管,还包括:钳位晶体管关断模块,分别与所述电容-电阻模块和钳位晶体管连接;

所述电容-电阻模块,用于识别所述高可靠性电源钳位ESD保护电路的电源管脚Vdd的脉冲是否为静电放电脉冲,若是,则发送第一响应信号至所述钳位晶体管开启模块,在经过所述电容-电阻模块的时间常数后,发送第二响应信号至所述钳位晶体管关断模块;

所述钳位晶体管开启模块,用于根据所述第一响应信号启动所述钳位晶体管;

所述钳位晶体管关断模块,用于根据所述第二响应信号关断所述钳位晶体管;

所述钳位晶体管,用于在启动时,释放所述静电放电脉冲带来的静电电荷。

其中,所述电容-电阻模块包括:串联连接的电容C1和电阻R1,所述电容C1与所述高可靠性电源钳位ESD保护电路的电源管脚Vdd连接,所述电阻R1接地。

其中,所述钳位晶体管为NMOS晶体管Mbig1,所述NMOS晶体管Mbig1的漏极与所述高可靠性电源钳位ESD保护电路的电源管脚Vdd连接,所述NMOS晶体管Mbig1的源极接地。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110129544.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top