[发明专利]成像设备

权利要求书

1.一种成像设备，包括：

载体；

在载体上形成图像的形成单元；

清洁所述载体的清洁单元；

检测形成在所述载体上的校正图形的检测单元；

执行校正过程的控制单元，该校正过程包括由所述清洁单元清洁在所述载体中的图形形成区、在所述清洁单元完成清洁之后，由所述形成单元在所述图形形成区中形成校正图形、以及根据由所述检测单元检测的所述校正图形的检测结果，校正所述形成单元的图像形成特征；

确定所述载体的污染程度的确定单元；以及

测量来自所述载体的反射光的量的测量单元，

其中由所述清洁单元对所述载体的清洁工作量是可改变的，

其中所述载体的污染程度较高时，所述清洁单元将清洁工作量设置成较大，

其中所述确定单元根据所述测量单元的测量结果，确定所述载体的污染程度，

其中所述确定单元将来自所述载体表面的反射光的量和来自校正图形表面的反射光的量之间的中间值设置为阈值，并且

其中所述确定单元将基于由所述测量单元测量的光的量的值与所述阈值进行比较，以确定污染程度。

2.一种成像设备，包括：

载体；

在载体上形成图像的形成单元；

清洁所述载体的清洁单元；

检测形成在所述载体上的校正图形的检测单元；

执行校正过程的控制单元，该校正过程包括由所述清洁单元清洁在所述载体中的图形形成区、在所述清洁单元完成清洁之后，由所述形成单元在所述图形形成区中形成校正图形、以及根据由所述检测单元检测的所述校正图形的检测结果，校正所述形成单元的图像形成特征；

确定所述载体的污染程度的确定单元；以及

测量来自所述载体的反射光的量的测量单元，

其中由所述清洁单元对所述载体的清洁工作量是可改变的，

其中所述载体的污染程度较高时，所述清洁单元将清洁工作量设置成较大，

其中所述确定单元根据所述测量单元的测量结果，确定所述载体的污染程度，

其中所述载体沿着旋转方向是可旋转的，

其中所述清洁单元围绕所述载体沿所述旋转方向设置在所述测量单元的下游，

其中围绕所述旋转方向中的所述载体，所述形成单元的成像位置设置在所述清洁单元的下游，并且

其中所述确定单元通过从所述测量单元的测量结果中减去由所述清洁单元所清洁的量，来确定所述载体的污染程度。

3.根据权利要求1或2所述的成像设备，还包括存储单元，

其中所述测量单元以预定的间隔测量来自所述载体的反射光的量，以获得测量值，

其中所述存储单元存储基于由所述测量单元测量的测量值的污染信息，并且

其中当进行校正过程时，所述确定单元根据前面存储在所述存储单元中的污染信息来确定污染程度。

4.根据权利要求3的成像设备，还包括：

状态检测单元，其检测所述成像设备的状态变化；和

无效单元，当由所述状态检测单元检测到所述成像设备的状态的变化时，该无效单元使污染信息无效。

5.根据权利要求1或2所述的成像设备，

其中，当所述确定单元确定所述载体的污染程度小于参考值时，所述清洁单元将工作量设置为零。

6.根据权利要求1或2所述的成像设备，

其中，当所述控制单元进行位置偏移校正，以校正由所述形成单元所形成的图像的位置偏移时，通过将来自所述载体的反射光的量与用于位置检测的阈值进行比较，所述检测单元检测校正图形的位置，并且

其中所述控制单元根据来自所述载体的表面的反射光的量而改变用于位置检测的阈值。

7.根据权利要求1或2所述的成像设备，

其中，所述清洁单元采取清洁所述载体的可操作的状态和不清洁所述载体的不可操作的状态。

8.根据权利要求4的成像设备，还包括：

覆盖开口的罩，所述图像形成单元通过该开口是可移除的；和

输送记录介质的输送单元，所述载体上的图像被传输到该记录介质上，

其中所述状态检测单元检测所述罩的状态或所述输送单元的状态的变化。