[发明专利]一种微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法、产品及其应用有效

专利信息
申请号: 201110134756.1 申请日: 2011-05-24
公开(公告)号: CN102303901A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 周勇;李政道;邹志刚 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C01G19/00 分类号: C01G19/00;B01J23/62;C07C9/04;C07C1/02;H01G9/04;H01G9/20;H01M14/00;H01L51/44
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 查俊奎
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 分级 结构 插片八面体 zn sub sno 制备 方法 产品 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)首先,在L-色氨酸存在的条件下,四氯化锡化合物、醋酸锌化合物和碱金属氢氧化物在水中进行反应,并分散均匀;

(2)然后,在高压釜中反应,控制反应温度为170~200℃;

(3)最后,将反应产物分离、干燥,得到微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4

其中,四氯化锡化合物∶醋酸锌化合物∶碱金属氢氧化物的摩尔比为1∶(2~3)∶(8~12),L-色氨酸∶四氯化锡化合物的摩尔比为5~10∶3。

2.按权利要求1所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:步骤(1)中四氯化锡化合物的浓度为0.02mol/L。

3.按权利要求1所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:步骤(2)中反应时间为10~24h。

4.按权利要求1所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:步骤(3)中,将反应产物离心分离、洗涤,然后干燥,干燥温度为60℃,干燥时间为8~24h。

5.按权利要求1到4之一所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:四氯化锡化合物∶醋酸锌化合物∶碱金属氢氧化物的摩尔比为1∶2∶12,L-色氨酸∶四氯化锡的摩尔比为10/3,步骤(2)中反应温度为200℃,反应时间为24h。

6.按权利要求1到4之一所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:所述四氯化锡化合物为五水四氯化锡,所述醋酸锌化合物为二水醋酸锌。

7.按权利要求1到5之一所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,其特征在于:所述碱金属氢氧化物为氢氧化钠或氢氧化钾。

8.由权利要求1到7之一所述制备方法得到的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4,其特征在于:该微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4呈八面体形,八面体的边长为1.5~2.5μm,八面体上插有纳米级六边形Zn2SnO4

9.权利要求8所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4在染料敏化太阳能电池电极中的应用。

10.权利要求8所述的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4在光催化还原CO2中的应用。

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