[发明专利]功率用半导体装置有效
申请号: | 201110140111.9 | 申请日: | 2011-05-16 |
公开(公告)号: | CN102299168A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 清水和宏 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L25/00;H02M1/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 半导体 装置 | ||
技术领域
本发明涉及利用二极管对电容器充电以得到高(电压)侧驱动电路的驱动电压的功率用半导体装置,特别涉及可以降低耗电功率的功率用半导体装置。
背景技术
在半桥电路中,驱动高侧开关元件的高侧驱动电路需要高于主电源的驱动电压。因此,已知利用二极管对电容器充电以得到该驱动电压(例如参照非专利文献1)。
非专利文献1:K.Watabe et al.、“A Half-Bridge Driver IC with Newly Designed High Voltage Diode”、Proc.Of ISPSD2001、pp.279-282.
内置在驱动电路的二极管具有P型半导体衬底、设在衬底表面的N型负极区域、设在N型负极区域内的P型正极区域。这2个半导体区域和半导体衬底构成寄生PNP晶体管。在对电容器充电时在二极管会流过正向电流。由于该正向电流也是寄生PNP晶体管的基极电流,因此寄生PNP晶体管的集电极电流从P型正极区域流向P型半导体衬底。该集电极电流流向GND,成为无助于IC动作的单纯的损耗。以往存在的问题是:损耗较多,耗电功率较大。
发明内容
本发明是为解决如上所述的问题而完成的,其目的在于得到一种可以降低耗电功率的功率用半导体装置。
本发明所涉及的功率用半导体装置包括:高侧开关元件及低(电压)侧开关元件,在高压侧电位与低压侧电位之间从高压侧依次图腾柱连接(totem-pole-connected);高侧驱动电路,驱动所述高侧开关元件;低侧驱动电路,驱动所述低侧开关元件;电容器,一端连接于所述高侧开关元件与所述低侧开关元件的连接点,另一端连接于所述高侧驱动电路的电源端子,向所述高侧驱动电路供给驱动电压;以及二极管,正极连接于电源,负极连接于所述电容器的所述另一端,将来自所述电源的电流供给至所述电容器的所述另一端,所述二极管具有:P型半导体衬底;N型负极区域,设在所述P型半导体衬底的表面;P型正极区域,设在所述N型负极区域内;P型接触区域及N型接触区域,设在所述P型正极区域内;负极电极,连接于所述N型负极区域;以及正极电极,连接于所述P型接触区域及所述N型接触区域。
根据本发明,可以降低耗电功率。
附图说明
图1是实施方式1所涉及的功率用半导体装置的电路图。
图2是表示实施方式1所涉及的高耐压二极管的剖视图。
图3是用于说明实施方式1所涉及的高耐压二极管的充电动作的剖视图。
图4是用于说明实施方式1所涉及的高耐压二极管的恢复(recovery)动作的剖视图。
图5是表示比较例所涉及的高耐压二极管的剖视图。
图6是用于说明比较例所涉及的高耐压二极管的充电动作的剖视图。
图7是表示实施方式2所涉及的高耐压二极管的剖视图。
图8是用于说明实施方式2所涉及的高耐压二极管的恢复动作的剖视图。
图9是表示实施方式3所涉及的高耐压二极管的剖视图。
图10是用于说明实施方式3所涉及的高耐压二极管的充电动作的剖视图。
图11是用于说明实施方式3所涉及的高耐压二极管的恢复动作的剖视图。
图12是表示实施方式4所涉及的高耐压二极管的平面图。
图13是沿着图12的A-A’的剖视图。
图14是沿着图12的B-B’的剖视图。
图15是用于说明实施方式4所涉及的高耐压二极管的恢复动作的平面图。
图16是表示实施方式5所涉及的高耐压二极管的平面图。
图17是沿着图16的A-A’的剖视图。
图18是沿着图16的B-B’的剖视图。
图19是表示实施方式6所涉及的高耐压二极管的剖视图。
图20是表示实施方式7所涉及的高耐压二极管的平面图。
图21是沿着图20的A-A’的剖视图。
图22是沿着图20的B-B’的剖视图。
图23是表示实施方式8所涉及的高耐压二极管的平面图。
图24是沿着图23的A-A’的剖视图。
图25是沿着图23的B-B’的剖视图。
图26是表示实施方式9所涉及的高耐压二极管的平面图。
图27是沿着图26的A-A’的剖视图。
图28是沿着图26的B-B’的剖视图。
标号说明
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