[发明专利]一种触摸屏表面防指纹薄膜的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种防指纹薄膜的制备方法，尤其是用于触摸屏表面的防指纹薄膜的制备方法。

背景技术

随着电子工业的发展，触摸屏的应用越来越广泛，从最初的小屏幕手机、MP3，到现在大尺寸屏幕的电脑、ATM、医疗、工业控制设备及显示器和电视机。特别是近两年， 平板电脑的推出带动了触摸屏技术的发展，这一技术也正逐渐应用到其他的便携电子产品上。随着手机市场规模持续增加，以及对手机智能化、便捷化程度要求越来越高，触摸屏作为一种最为友善的人机接口在手机上的应用也会越来越普及。触摸屏在带来方便、舒适和快捷的同时，因手指经常触碰屏幕表面留下指纹印和油污，不易清洗，时间一长就会对影响屏幕的正常使用。

发明内容

为了克服现有技术中的触摸屏在使用过程中表面易粘留指纹印和油污的问题，本发明提供了一种触摸屏表面防指纹薄膜的制备方法，通过该方法制备得到的防指纹薄膜不粘指纹，防污效果好，同时，该薄膜在基材表面的附着力强，且适用于大尺寸触摸屏。

本发明公开的触摸屏表面防指纹薄膜的制备方法包括在氩气气氛下，采用磁控溅射在玻璃基材表面形成防指纹薄膜，其中，磁控溅射采用的靶材含有二氧化硅和含氟有机物。

本发明中，通过采用含有二氧化硅和含氟有机物的靶材，在玻璃基材表面形成含有硅、碳和氟的防指纹薄膜，其透光率高，用于触摸屏表面时对触摸屏的亮度无影响；并且，防指纹薄膜的防污效果非常好；而且，该薄膜在玻璃基材表面的附着力非常高，使用寿命长。

另外，对于本发明公开的制备方法，适用于大尺寸的防指纹薄膜制作，对于大尺寸的触摸屏（如平板电脑触摸屏），本发明公开的方法同样适用，其生产效率高。

具体实施方式

为了使本发明所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明公开的触摸屏表面防指纹薄膜的制备方法包括在氩气气氛下，采用磁控溅射在玻璃基材表面形成防指纹薄膜，其中，磁控溅射采用的靶材含有二氧化硅和含氟有机物。

本发明公开的方法中，通过采用含有二氧化硅和含氟有机物的靶材，在玻璃基材表面形成含有硅、碳和氟的防指纹薄膜，在大大提高薄膜防指纹效果的同时，赋予了其非常高的光线透过率、耐磨性和附着力。

上述含有二氧化硅和含氟有机物的靶材中，含氟有机物可以为各种含氟的有机化合物，例如聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯中的一种或多种，优选情况下，所述靶材中，以硅和氟的摩尔数计，二氧化硅和聚四氟乙烯摩尔比为0.1-1：1。进一步优选情况下，所述含氟有机物为聚四氟乙烯，即所述靶材为二氧化硅和聚四氟乙烯的混合靶材。

进一步的，为了提高靶材中各成分能更均匀的分散，使磁控溅射后形成的防指纹薄膜防指纹效果、透光性和耐磨性能更佳，优选情况下，所述靶材通过如下方法制备得到：将二氧化硅和聚四氟乙烯颗粒混合，然后拌油、熟化，再经过装胚、出胚，并进行烧结成胚，经车削后得到靶材。上述拌油、熟化和烧结的方法为本领域技术人员所公知的，例如所述拌油的方法可以为将二氧化硅和聚四氟乙烯颗粒与5wt%的石墨混合均匀；所述熟化方法可以为在250℃静置30min；所述烧结方法可以为330-380℃烧结30min。

将靶材准备好之后，即可进行磁控溅射。所述磁控溅射可以采用现有的各种方式的磁控溅射，例如可采用射频磁控溅射。本发明中，所述磁控溅射可采用现有技术中的设备完成，例如可采用13.56MHz、3KW的射频电源作为工作电源的磁控溅射镀膜机（北京北仪真空JP-900A）完成。

本发明中，所述磁控溅射方法和条件没有太大限制，优选情况下，所述磁控溅射方法为：将真空室抽真空至5.0×10^-3Pa以下，然后充入氩气，直至气压为0.3-2.0Pa，调整偏压为50-500V，占空比为15-90%，以300-3000W的功率溅射为5-25min。优选情况下，偏压为50-250V，占空比为40-60%，以900-1500W的功率溅射为8-15min。

进一步优选情况下，所述磁控溅射在恒定的功率下进行。

本发明中，磁控溅射时，以氩气作为工作气体，具体的，氩气的流量为200-500sccm。如现有技术中公知的，上述氩气为纯度大于99.99%的氩气，可通过商购得到。