[发明专利]固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物及其制造方法、固化膜及其形成方法及显示元件

权利要求书

1.固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其含有：

[A]具有(a1)含羧基的结构单元及(a2)含环氧基的结构单元的共聚物、

[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、

[C]放射线敏感性聚合引发剂、

[D]具有羟基或羧基的化合物、及

[E]胺化合物；

并且在25℃下的粘度为1.0mPa·s以上50mPa·s以下。

2.权利要求1中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其中[E]胺化合物可以被包合于[D]化合物中。

3.权利要求1或2中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其中[D]化合物是由下述式(1)及式(2)分别表示的化合物构成的群组中选出的至少一种化合物，[E]胺化合物为咪唑化合物或苯并咪唑化合物，

式(1)中，X为单键、亚甲基或碳原子数为2～6的亚烷基，R¹～R⁸各自独立地为氢原子、碳原子数为1～12的烷基、卤素原子、碳原子数为1～12的烷氧基或可以具有取代基的苯基；

式(2)中，R⁹为碳原子数为1～12的烷基、碳原子数为1～12的烷氧基、硝基或羟基。

4.权利要求3中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，上述式(1)表示的化合物为下述式(1-1)表示的化合物，

式(1-1)中，X及R¹～R⁸与上述式(1)中含义相同。

5.权利要求1至4任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其中[E]胺化合物的至少一部分被包合于[D]化合物中。

6.权利要求1至5任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其中[C]放射线敏感性聚合引发剂为由苯乙酮化合物及O-酰基肟化合物构成的群组中选出的至少一种。

7.权利要求1至6任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其中还含有由醇类溶剂及醚类溶剂构成的群组中选出的至少一种溶剂。

8.权利要求1至7任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，其通过将[D]化合物中包合[E]胺化合物而得到的包合物混入[A]共聚物、[B]聚合性化合物及[C]放射线敏感性聚合引发剂中，配制成在25℃下粘度为1.0mPa·s以上50mPa·s以下而得到。

9.一种固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物的制造方法，其具有将[D]化合物中包合[E]胺化合物而得到的包合物混入[A]共聚物、[B]聚合性化合物及[C]放射线敏感性聚合引发剂中，配制成在25℃下粘度为1.0mPa·s以上50mPa·s以下的工序。

10.一种固化膜的形成方法，其具备：

(1)在基板上形成权利要求1至8任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序；

(2)对上述涂膜的至少一部分照射放射线的工序；

(3)使经过上述放射线照射的涂膜显影的工序；及

(4)对经过上述显影的涂膜进行烧制的工序。

11.权利要求10中所述的形成方法，上述工序(4)的烧制温度为200℃以下。

12.由权利要求1至8任一项中所述的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔离物的固化膜。

13.具有权利要求12中所述的固化膜的显示元件。