[发明专利]一种超材料的制备方法和超材料有效
| 申请号： | 201110145882.7 | 申请日： | 2011-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN102480018A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;赵治亚;缪锡根;杨宗荣 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 材料 制备 方法 | ||
1.一种超材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
在基材上刻蚀出微结构沟槽；
在具有微结构沟槽的基材上附着一层金属；
去掉基材上除微结构沟槽以外部分附着的金属，获得超材料。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在基材上刻蚀出微结构沟槽，包括：
采用激光刻蚀机在基材上刻蚀出微结构沟槽。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用激光刻蚀机在在基材上刻蚀出微结构沟槽，具体包括：
将预设的微结构参数输入到所述激光刻蚀机的控制系统，所述控制系统根据接收的微结构参数，控制所述激光刻蚀机的刻蚀单元在所述基材上进行刻蚀，在所述基材上形成微结构沟槽。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述去掉基材上除微结构沟槽以外部分附着的金属，包括：
对附着有金属的基材进行抛光，去掉基材上除微结构沟槽以外部分附着的金属；或者，
采用化学抛光的方式，洗去基材上除微结构沟槽以外部分附着的金属。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在基材上刻蚀出微结构沟槽之前，还包括：
选择所需基材，并对该基材进行清洁。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在具有微结构沟槽的基材上附着一层金属，具体包括：
在具有微结构沟槽的基材上电镀一层金属。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在具有微结构沟槽的基材上附着一层金属，具体包括：
在具有微结构沟槽的基材上蒸镀一层金属。
8.根据权利要求1所述的方，其特征在于，所述对附着有金属的基材进行抛光，具体包括：
采用化学机械抛光的方式，对附着有金属的基材进行抛光。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述微结构沟槽的图形包括：轴对称图形和非轴对称图形。
10.一种超材料，其特征在于，包括：
具有微结构沟槽的基材；以及
附着在所述微结构沟槽中的金属层。
11.根据权利要求1所述超材料，其特征在于，所述微结构沟槽的图形包括：轴对称图形和非轴对称图形。
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