[发明专利]一种阵列基板有效
| 申请号： | 201110152260.7 | 申请日： | 2011-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN102645788A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 吴松;张南红 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，在该阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构是由测试元件组TEG所形成，该TEG包括至少两独立膜层和至少一覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少一覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状，该结构层与TEG之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为TEG以及该阵列基板上的至少一个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为该阵列基板上的至少两个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，与TEG相邻的结构层与TEG具有相同的膜层，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少一覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。
7.根据权利要求3～6中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述设定距离大于曝光机的对准精度，并且小于摩擦布毛纤维直径。
8.根据权利要求3～6中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述结构层上端的平台的长度大于摩擦布毛纤维直径。
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