[发明专利]一种改进的瓦楞辊热处理方法无效
申请号: | 201110158666.6 | 申请日: | 2011-06-14 |
公开(公告)号: | CN102828190A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 陈永智 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区矗泰金属热处理有限公司 |
主分类号: | C23F17/00 | 分类号: | C23F17/00;C23C8/26;C21D1/10;C21D6/04 |
代理公司: | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人: | 张文雄 |
地址: | 528300 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改进 瓦楞 热处理 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种热处理生产工艺,特别是一种改进的瓦楞辊热处理方法。属于金属材料热处理和轻工制造技术领域。
背景技术
瓦楞辊是瓦楞纸板生产线上的关键部件,而瓦楞辊的热处理质量又是考核瓦楞辊的使用寿命的重要指标。直接影响到瓦楞纸板生产线的开停机时间,目前,在行业中对瓦楞辊的热处理一般采用中频表面淬火,也有小部分厂家做氮化处理,或者采用激光处理,但是,这些热处理方法存在各自的缺陷:(1)中频表面淬火,瓦楞辊其表面硬层虽然可达5mm,但其硬度低,只有HRC52~56,最大的缺陷是抗回火性能差,在温度180℃时,其硬度就下降到HRC48~52,而且硬度分布不均匀,有软点,激光处理也存在这个问题,由于瓦楞辊在纸板生产线上生产纸板时,都要通蒸汽或石油汽进行加热的,通蒸汽加热的,温度达180℃,通石油汽的,温度高达250~300℃,在这个温度下,瓦楞辊的硬度就下降了很多,硬度只有HRC48~50。这样瓦楞辊很容易磨损,甚至出现凹坑,严重影响纸板质量。(2)氮化处理的瓦楞辊,其硬层浅,只有0.25~0.4mm,所以,在使用中会出现凹坑、麻点现象,影响纸板质量。(3)激光处理的瓦楞辊,其硬度浅,只有0.80mm,另外,由于激光加热温度高,致使齿面溶化,这样就降低了瓦楞辊的光洁度和齿形精度,产生单齿扭曲变形,严重影响瓦楞辊的吻合精度,从而发生咬齿现象。
发明内容
本发明的目的,是为了解决现有技术存在的问题,提供一种改进的瓦楞辊热处理方法。具有残余奥氏体量能明显减少、组织尺寸稳定的优点。
本发明的目的可以通过以下技术方案达到:
一种改进的瓦楞辊热处理方法,其特征在于:包括复合处理和深冷处理二个处理程序,所述复合处理是指先将瓦楞辊氮化后再做中频表面淬火,具体步骤如下:
1)氮化处理
将瓦楞辊放置于氮化炉中,以氨气作为氮化剂,在温度为550℃~570℃的温度条件下进行氮化处理45~50小时后取出;
2)频表面淬火处理
用中频感应加热设备对1)步中取出的瓦楞辊进行淬火处理,进行淬火处理时,先将温度加热至850℃~870℃,然后在该温度下通过使用PAG淬火剂对瓦楞辊喷淋冷却;
3)深冷处理
将经过2)步处理后的瓦楞辊放置于深冷炉中,以液氮作为制冷剂进行深冷处理,深冷处理包括三个步骤:首先将深冷炉运行制冷使瓦楞辊的温度下降至-80℃~-100℃,在该温度下保温65~70分钟;再次运行所述深冷炉使瓦楞辊温度进一步下降至-110℃~-130℃,再保温180~230分钟;第三次运行深冷炉使瓦楞辊温度下降至-180℃~-230℃,再保温280~320分钟;完成整个瓦楞辊热处理过程。
本发明的目的还可以通过以下技术方案达到:
本发明的一种实施方案是:步骤1)的氮化处理过程中氨的分解率可以为35%~60%。
本发明的一种实施方案是:步骤1)中所述的氮化炉可以为160KW深井氮化炉。
本发明的一种实施方案是:步骤2)中所述的中频感应加热设备可以为500KW中频机。
本发明的一种实施方案是:步骤2)中所述的加热电压可以为8KV~9.5KV,加热电流可以为580A~750A。
本发明的一种实施方案是:步骤3)中所述的深冷炉可以为井式深冷炉。
本发明具有如下突出的有益效果:
1、本发明结合氮化处理和中频表面淬火的优点,可有效提高瓦楞辊的表面硬度特别是在本发明所限定的工艺条件(包括温度条件和时间条件)下,使瓦楞辊的表面既有较高的硬度(HRC60~62),又能获得较深的硬层(有效硬层可达3mm以上),具有降低固溶强化,增强弥散强化效果,有利于改善瓦楞辊的韧性,使冲击韧性提高。
2、本发明采用复合处理(氮化处理+中频表面淬火)以及深冷处理,大大提高了瓦楞辊的抗回火性能,经深冷处理后的晶粒明显地细化,组织更均匀,尺寸更稳定。
附图说明
图1为本发明的生产工艺流程图。
具体实施方式
具体实施例1:
图1构成本发明的具体实施例1。
参照图1,瓦楞辊的热处理生产工艺包括以下步骤:
1)氮化处理
将瓦楞辊放置于氮化炉中,以氨气作为氮化剂,氨分解率为35%~60%,氮化温度为550℃~570℃,氮化48小时取出;
2)中频表面淬火
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