[发明专利]氧化锆陶瓷托槽多孔底面的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110170862.5 申请日: 2011-06-23
公开(公告)号: CN102210612A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 王鸿娟;司文捷;严庆云;孟宪梓 申请(专利权)人: 辽宁爱尔创生物材料有限公司
主分类号: A61C7/16 分类号: A61C7/16
代理公司: 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 代理人: 姜婷婷
地址: 117000 辽宁省本*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 氧化锆 陶瓷 多孔 底面 制造 方法
【权利要求书】:

1.氧化锆陶瓷托槽多孔底面的制造方法,其特征在于包括下述步骤:将氧化锆、氧化铝及二氧化硅三种原料根据不同比例混合球磨,其中氧化锆占原料总量的质量百分比为90%-100%,配制成质量百分比浓度为0.01%-80%的溶液,涂复在陶瓷托槽底部,在1000-1450℃温度下,烧结2小时,利用球磨时间和烧结温度控制所需粒径大小,再与粘结剂粘接即可。

2.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷托槽多孔底面的制造方法,其特征在于所述的混合球磨步骤中,原料为氧化锆、氧化铝及二氧化硅中的至少两种。

3.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷托槽多孔底面的制造方法,其特征在于包括下述步骤:将氧化锆:二氧化硅根据质量比10:1比例混合球磨20h,粗颗粒氧化锆粒径分布范围在0.05-0.33mm,配制成质量百分比浓度为0.04%的溶液,将此溶液0.2ml均匀涂复在氧化锆陶瓷托槽底部,将涂复后氧化锆陶瓷托槽在1320℃下烧结2小时,微粒尺寸为2μm,再与粘结剂粘接即可。

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