[发明专利]含羟基的烃基双环胍的光碱产生剂及其制备方法和用途

权利要求书

1.含羟基的烃基双环胍的光碱产生剂，其结构如下(I)或(II)所示：

其中R_1-6选自-CH₂OH，-CH₂CH₂OH，-CH₂CH₂CH₂OH，-CH(CH₃)CH₂OH；R_7-11选自-H，-CH₃，-CH₂CH₃，-OCH₃；

或者

其中R_1-6选自-CH₂OH，-CH₂CH₂OH，-CH₂CH₂CH₂OH，-CH(CH₃)CH₂OH，R_7-11选自-H，-CH₃，-CH₂CH₃，-OCH₃。

2.权利要求1所述的光碱产生剂的制备方法，其特征是：将含有羟基的烃基的双环胍、四苯基硼盐以质量比1∶1与HCl在水中混合使溶液pH高于4.0，然后过滤，最后在甲醇和氯仿混合物中结晶。

3.权利要求1所述的光碱产生剂在酯交换反应、Michael加成、Henry反应和开环聚合反应中作为光引发催化剂的应用。

4.权利要求1所述的光碱产生剂在光引发酯交换反应中催化含酯基水溶性聚合物对纤维素进行表面改性的应用。

5.权利要求1所述的光碱产生剂在光引发酯交换反应中催化含酯基水溶性聚合物对纤维素进行表面改性的方法，其特征是，步骤如下：

a.将纤维素溶于水中，纤维素与水质量比为1∶10～30，涂布于载玻片上，制成薄膜；

b.将含酯基水溶性聚合物和含羟基的烃基双环胍的光碱产生剂溶解于乙腈溶剂中涂布在步骤a得的薄膜上；所述的含酯基的水溶性聚合物指1-乙烯基吡咯烷酮和2-甲基丙烯酸二甲氨基乙酯质量比1∶1的双聚物；

c.以紫外光照射薄膜；

d.烘焙薄膜交联；

e.用四氢呋喃浸洗。

6.根据权利要求5所述的表面改性的方法，其特征是，其中步骤a中纤维素薄膜的厚度为10～15微米；步骤b中得到的混合薄膜厚度为0.5～1.5微米。

7.根据权利要求5所述的表面改性的方法，其特征是，步骤b中含酯基水溶性聚合物和光碱产生剂的质量比为5～20∶1

8.根据权利要求5所述的表面改性的方法，其特征是，步骤c中照射时间为5～15min；步骤d中烘焙温度为80～120℃，时间为5～30min；步骤e中浸洗时间为5～20min。