[发明专利]一种光学平面基片的制作方法

说明书

技术领域

本发明属于光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法。

背景技术

随着科学技术的进步，光学仪器使用日益增多，而光学仪器中通常会使用到平面基片，平面基片在我们的四周处处可以看到，如：CD、HD、LD、VCD、DVD、CD-ROM和CVD等光盘基片；手机面板、MP3面板、摄像头玻片、精密仪表面板等等，都属于平面基片；现有技术中，平面基片的制作采用手工的较多，因此，制作时间长、产品间的差异大、效率低下，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度相对较差；然而，社会对于这类产品的需求增长是相当惊人的，因此，现有技术已不能满足要求。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种光学平面基片的制作方法，它可大大提高生产效率，它是采用以下技术方案来实现的：

一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：

第1步：选取原材料：选取厚度为0.1mm～1.0mm的基片母板；

第2步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；

第3步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；

第4步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为20℃～28℃；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；

第5步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为32℃～40℃，抛光压力150～250g/cm²；抛光完成形成抛光片；

第6步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；

第7步：检验：对清洗片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。

一种光学平面基片的制作方法，其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：

第1步：选取原材料：选取厚度为0.1mm～1.0mm的基片母板；

第2步：预成型：采用划片机在基片母板上划下所需大小的基片毛坯；

第3步：仿形：采用芯取机，对基片毛坯进行芯取达到预期轮廓的芯取片；

第4步：研磨：采用球面研磨机或双面研磨机将芯取片进行研磨，研磨是在百级洁净室内进行的，温度为20℃～28℃；研磨是在研磨油中进行的，研磨完成形成研磨片；

第5步：抛光：采用环抛机对研磨片的表面进行抛光；抛光是在抛光液中进行的，抛光时间为3分钟到10分钟，抛光温度为32℃～40℃，抛光压力150～250g/cm²；抛光完成形成抛光片；

第6步：清洗：采用超声波清洗机对抛光片进行清洗，清洗并干燥完成得到清洗片；

第7步：贴膜：在清洗片表面贴上透光薄膜形成了贴膜基片；

第8步：检验：对贴膜基片进行粗糙度、平行度、平面度、厚度、表面裂纹、透光度检验，挑选出全部合格的即形成了光学平面基片。

上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液具有以下成份：二氧化硅15％～40％(重量)；氧化钠≤0.3％(重量)；重金属及杂质≤40ppb；纯净水：二氧化硅、氧化钠、重金属及杂质三者重量之和的1～20倍；所述抛光液的密度为1.1g/ml～1.2g/ml。

上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述抛光液中的重金属为铜。

上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述研磨油中按重量计包含有以下成份：硼酸盐10％～30％、多元醇5％～20％、阴离子表面活性剂5％～15％、润滑剂5％～10％、防锈剂5％～10％、去离子水或纯净水15～60％、氧化钠5％～10％。

上述所述的光学平面基片的制作方法，其特征在于所述多元醇为乙二醇或甘油或山梨醇；所述阴离子表面活性剂为羧酸盐或硫酸酯盐或磺酸盐或磷酸酯盐；所述润滑剂为如硅油或硅酸酯或磷酸酯或氟油；所述防锈剂为市售的YG-901型防锈剂。

本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。

附图说明

图1是本发明实施实例1的原理框图；

图2是本发明实施实例2的原理框图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详细的描述。