[发明专利]一种适应温度压强变化的气体幅射谱不变特征提取方法有效

专利信息
申请号: 201110181499.7 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102346129A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 张天序;郑珍珠;方正;张伟;杨卫东;颜露新;徐利成;王娟;付平 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 适应 温度 压强 变化 气体 幅射 不变 特征 提取 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于基于谱特征的时变识别领域,具体涉及一种气体幅射谱特征提取方法。

背景技术

常规探测手段一般使用单谱段成像探测方法,在较宽的谱段上采集待识别/背景能量,此时待识别往往淹没于复杂的背景杂波之中或被干扰、伪装等隐蔽,表现为待识别信号非常微弱,信噪比、信杂比很低。然而待识别对象固有的物理、化学特性和结构等与背景、干扰、伪装等有较大差别,因此在某些谱线或较窄的谱段上,其特征会比较明显,即在这些谱线或较窄谱段上,待识别对象相对背景的信噪比、信杂比较高。通过谱指纹的提取,利用待识别在这些谱线上的独特的谱特征,可以大大提高待识别的可探测性。

对待识别、背景的多光谱信息进行有效的选择、提取、分析,并将谱信息、图像信息与时间变化信息融合起来,可实现简化系统、优化配置、优势互补,大大提高复杂条件下待识别探测、识别的可靠性。

随着波段数量的增多,待识别探测时可以根据需要选择或提取特定的波段突出待识别特征,光谱特征的选择变得更加灵活和多样。同时,光谱数据中蕴含丰富的待识别光谱知识,这些光谱知识通过不同的表现和组合方式可以转化为不同的特征,可以为待识别探测和识别提供更广泛的特征分析空间。另外,各类地物都有自己的光谱反射和辐射特性,利用不同地物的光谱特征,可以实现地物的分类和识别。因此,谱指纹特征提取成为识别研究中的重要内容。

自上世纪九十年代,国外出现了进行高光谱图像待识别检测算法理论研究的研究组,如美国马里兰大学巴尔的摩分校遥感信号和图像处理实验室的Chang组,美国麻省理工学院林肯实验室Manolakis组等等。至今,使用谱进行识别依然存在着难题(如图3所示):谱会随待识别本体温度、压强等物理条件的改变发生变化.因此,提取谱独特的不变特征成为基于谱指纹多谱图(像)待识别与检测的重要研究内容。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗温度压强变化的气体幅射谱特征提取方法,为复杂条件下的识别与检测提供良好支撑。

一种基于幅射谱特征提取的气体目标识别方法,涉及用以匹配的指纹图库,谱指纹图库包含对多个参考谱分别采用一维曲率尺度空间描述方法生成的指纹图,该方法具体为:

(1)对气体目标谱采用一维曲率尺度空间描述方法生成指纹图;

(2)分别提取目标谱指纹图和指纹图库中所有参考谱指纹图的指纹特征,所述指纹特征为指纹图中拱形顶点的二维坐标值;

(3)更新参考谱指纹图Ri的所有拱形顶点的Y轴坐标值为其与高度修正参数ki的乘积,其中,i=1,2…,N,N为参考谱总数,为第i个参考谱指纹图的拱形顶点中最大的Y轴坐标值,为目标谱指纹图的拱形顶点中最大的Y轴坐标值;

(4)在步骤(3)更新后的参考谱指纹图中,以拱形顶点位置最接近为标准搜寻与目标谱指纹图最匹配的参考谱指纹图Rm,并记录Rm的各拱形顶点分别与其在目标谱指纹图对应的拱形顶点的二维坐标值差异,对得到的二维坐标值差异求和得到匹配代价:

(5)若步骤(4)计算得到的匹配代价小于判别阈值,则判定气体目标为R对应的气体。

进一步地,所述步骤(4)具体为:

(41)对目标谱指纹图和步骤(3)更新后的参考谱指纹图的所有拱形顶点二维坐标值分别进行归一化处理;

(42)归一化处理后,目标谱指纹图中最大Y轴坐标值的拱形顶点To与参考谱指纹图Ri中最大Y轴坐标值的拱形顶点构成初始节点i=1,2…,N;

(43)计算初始节点中To与的二维坐标值差异标记拱形顶点To

(44)从i=1,2…,N中选出最小者其对应参考谱指纹图记为Rm;若目标谱和Rm均存在未标记拱形顶点,进入步骤(45),若仅有目标谱或仅有参考谱指纹图Rm存在未标记拱形顶点,进入步骤(46),若目标谱和参考谱指纹图Rm均不存在未标记拱形顶点,进入步骤(47);

(45)分别在目标谱和参考谱指纹图Rm内未标记的拱形顶点中寻找Y轴坐标值最大的拱形顶点构成节点,计算该节点中两顶点的二维坐标值差异Δ,更新标记该节点中的两拱形顶点,返回步骤(44);

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110181499.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top