[发明专利]一种晶体硅太阳能电池片及其扩散方法有效

专利信息
申请号: 201110182474.9 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102254991A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 汪琴霞 申请(专利权)人: 浚鑫科技股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/068
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明
地址: 214443 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 晶体 太阳能电池 及其 扩散 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池的生产加工技术,更具体的说,涉及一种晶体硅太阳能电池片及其扩散方法。

背景技术

近年来,太阳能电池片生产技术不断进步,生产成本不断降低,转换效率不断提高,使得光伏发电的应用日益普及并迅猛发展,逐渐成为电力供应的重要来源。太阳能电池片可以在阳光的照射下,把光能转换为电能,实现光伏发电。

太阳能电池片的生产工艺比较复杂,简单说来,目前的太阳能电池片的生产过程可以分为一下几个主要步骤:

S11、超声清洗,利用超声波清洗硅片表面;

S12、制绒面,通过化学反应在原本光滑的硅片便面形成凹凸不平的结构,以增强光的吸收;

S13、扩散,将P型的硅片放入扩散炉内,通过硅原子之间的空隙使N型杂质原子由硅片表面层向硅片内部扩散,形成PN结,使电子和空穴在流动后不再回到原处,这样便形成电流,也就使硅片具有光伏效应;

S14、等离子刻蚀,去除扩散过程中在硅片边缘形成的将PN结短路的导电层;

S15、去磷硅玻璃,化学清洗硅片表面,去掉反应形成的磷硅玻璃;

S16、PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition,等离子增强的化学气相沉积),即沉积减反射膜,利用薄膜干涉原理,减少光的反射,起到钝化作用,增大电池的短路电流和输出功率,提高转换效率;

S17、丝网印刷烧,采用银浆印刷正电极和背电极,采用铝浆印刷背场,以收集电流并起到导电的作用,在高温下使印刷的电极与硅片之间形成欧姆接触;

S18、测试分选。

由于PN结是太阳能电池的核心结构,PN结的质量直接决定着天阳能电池的电性能参数。通过在P型硅片表面掺杂N型杂质,从而形成P-N结的过程,称之为扩散。所以上述扩散步骤是太阳能电池生产的关键环节。

现有技术采用的扩散方式为POCL3液态源扩散,如图2所示,硅片1位于石英管2内的承载台3上,1POCL3液态源扩散用到的工艺气体为氧气(O2)、氮气(该氮气一般流量较大,在5L/min以上,俗称大氮,表示为N2)、携带气体(一般采用氮气,流量在2L/min以下,俗称小氮,表示为N2-POCl3),通过氮气携带N2-POCl3并同时通入一定量的氧气,使加热炉管中的硅片表面生成含磷的氧化层,在高温下,磷从氧化层扩散到硅中,从而在P型硅片表面形成一层薄的重掺杂的N型区,即掺磷的发射区。

在实际生产过程中,采用现有技术中的扩散方法生产的太阳能电池的转换效率普遍偏低,发明人经过研究发现,太阳能电池片的转换效率还可以进一步改善。

发明内容

本发明实施例提供了一种晶体硅太阳能电池片及其扩散方法,以进一步改善太阳能电池片的电性能,尤其是改善晶体硅太阳能电池片的转换效率。

为实现上述目的,本发明实施例提供了如下技术方案:

一种扩散方法,包括:

A、将硅片放入扩散炉中,升温至780℃~800℃;

B、经扩散炉管向扩散炉通入预设含量的小氮、氧气和大氮,扩散炉内温度保持在780℃~800℃,时间为15min~20min;

C、经扩散炉管向扩散炉通入预设含量的氧气和大氮,扩散炉内温度升至850℃~870℃,时间为10min~18min;

D、扩散过程结束,在扩散炉降温后取出硅片。

在整个扩散过程中,所述扩散炉管内的气体流量恒定。

优选的,步骤B中,所述经过扩散炉管的小氮与氧气的体积流量比为4∶1~7∶1。

优选的,所述扩散炉管内的气体流量保持在7L/min。

优选的,所述小氮流量为1L/min~1.5L/min,所述氧气的流量为0.15L/min~0.42L/min,所述大氮的流量为5.08L/min~5.85L/min。

优选的,所述小氮流量为1.3L/min,所述氧气的流量为0.3L/min,所述大氮的流量为5.4L/min。

优选的,步骤C中,所述经过扩散炉管的氧气流量为2L/min~3L/min,所述大氮的流量为4L/min~5L/min。

一种采用上述方法生产的晶体硅太阳能电池片。

优选的,所述电池片的PN结的结深为0.18um~0.22um。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浚鑫科技股份有限公司,未经浚鑫科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110182474.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top