[发明专利]非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法

权利要求书

1.一种非晶相陶瓷涂层坩埚，其特征是：在坩埚的内壁具有非晶陶瓷薄膜。

2.一种权利要求1所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：过程如下：

a、高熔点陶瓷粉体喷雾造粒，粒径控制在15-60μm，微观形貌为球形或椭球形；

b、热喷涂制备非晶涂层。

3.根据权利要求2所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：所述的a过程中高熔点陶瓷粉体为氮化硅、氮化硼、氧化锆或锆酸钡高熔点陶瓷粉体，粉体平均粒径1μm，纯度99.99％以上。

4.根据权利要求2所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：所述的b过程中采用等离子喷涂和火焰喷涂工艺进行热喷涂。

5.根据权利要求3所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：所述的b过程实施时需要持续用氮气对坩埚内壁进行冷却。

6.根据权利要求3所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：所述的等离子喷涂工艺的工艺参数为：喷涂电流550A，喷涂电压60V；主气Ar，压强0.55MPa，流量40L/min；喷涂距离100mm，送粉气N2，压强0.3MPa，流量7L/min；喷枪移动速度100mm/s，喷涂遍数6遍。

7.根据权利要求3所述的非晶相陶瓷涂层坩埚的制备方法，其特征是：所述的火焰喷涂工艺的工艺参数为：氧气流量166.7L/min，燃气丙烷流量20L/min，喷涂距离120mm，送粉氮气压强0.6MPa，送粉氮气流量10L/min，喷枪移动速度100/min，喷涂遍数4次。