[发明专利]光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘无效
| 申请号： | 201110197666.7 | 申请日： | 2004-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102332276A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 白鹭俊彦;峰岸慎治 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王莉莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光盘 母盘 制造 方法 以及 | ||
【权利要求书】：
1.一种光盘用母盘的制造装置，该方法包括：
成膜装置，在衬底上作为膜形成由过渡金属的不完全氧化物制成的无机光刻胶层；以及
通过曝光和显影所述无机光刻胶层来形成包括凹/凸形状的光刻胶图案的曝光装置和显影装置，
其中在所述成膜装置中，通过至少改变成膜功率或反应气体比率，使所述无机光刻胶层的氧浓度在其厚度方向上不同。
2.根据权利要求1所述的光盘用母盘的制造装置，其中所述氧浓度从所述无机光刻胶层的表面向着所述衬底的表面减小。
3.根据权利要求1所述的光盘用母盘的制造装置，其中所述氧浓度从所述无机光刻胶层的表面向着所述衬底的表面增大。
4.根据权利要求1所述的光盘用母盘的制造装置，其中
使用过渡金属的单个元素或合金，或者它们的氧化物作为靶材料，通过使用氧或氮作为反应气体的溅射法，在该衬底上作为膜形成所述无机光刻胶层。
5.根据权利要求4所述的光盘用母盘的制造装置，其中钨、钼、钼钨和它们的氧化物之一用作所述靶材料。
6.根据权利要求1所述的光盘用母盘的制造装置，其中通过改变对所述无机光刻胶层的曝光功率，形成不同深度的凹/凸形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社，未经索尼株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110197666.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
