[发明专利]光控投射电机

权利要求书

1.本发明提供一种光控电磁投射技术，具体指投射电机，由轨道磁轭、多相分布加速绕组、控制绕组和光栅及半导体控制电路组成定子投射电枢，由直流或交流电源供电，其特征是：在加速轨道磁轭上设置多相分布绕组、控制绕组和光栅，多相分布绕组产生有梯度的运动磁场(或旋转磁场)，将投射体匀加速到磁场运动的同步发射速度；用光栅控制技术(投射体自影位置跟踪)控制多相分布绕组换相，使运动磁场与投射体同步，利用控制线圈控制投射体的发射姿态。

2.根据权利要求1所述的投射电机，投射体可以是弹丸、炮弹，也可以是导弹、卫星和飞机等，其特征是：根据投射体的发射要求，投射电机的定子投射电枢(加速器)，可以是直线或螺旋加速型；轨道可以是单面、双面和多面管道型，对于不同种类的投射体，做成不同种类的投射电机，它是一种新的电磁投射技术途径，形成一门新的投射电机学。

3.根据权利要求1所述的投射电机，也可做成间接投射型，其特征是：除定子投射电枢外，投射电机还有电磁弹射座仓，投射体装入座仓中投射。