[发明专利]ITO银浆走线的制作方法无效
申请号: | 201110202545.7 | 申请日: | 2011-07-19 |
公开(公告)号: | CN102221936A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 蔡汉业;吕一帆 | 申请(专利权)人: | 信利半导体有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 516600 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ito 银浆走线 制作方法 | ||
1.一种ITO银浆走线的制作方法,其特征在于,包括:
丝印银浆,在TIO上构成整片银浆;
固化所述丝印后的整片银浆;
对所述固化后的整片银浆执行激光干刻,获取银浆走线。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述执行激光干刻,获取预设宽度的银浆走线的具体过程包括:
依据预设的银浆走线图示,利用激光干刻的高温气化多余的银浆;
获取对应所述银浆走线图示中银浆走线。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述银浆走线的宽度的范围包括:30微米~50微米。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,各个所述银浆走线之间的间距的范围包括:30微米~50微米。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述银浆走线的宽度为40微米;所述银浆走线的间距为30微米。
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