[发明专利]镀膜的方法

权利要求书

1.一种镀膜的方法，包括：

提供一基板、以及一镀膜源与该基板相对，提供一阴影掩模单元于该基板与该镀膜源之间且对应于该基板的一第一区域，其中该阴影掩模单元具有一开口图案；

以该阴影掩模单元为掩模，利用该镀膜源进行一第一镀膜制作工艺，以于该开口图案所暴露出的该第一区域上形成一第一图案化镀膜；

使该阴影掩模单元与该基板之间相对位移，以使位移后的该阴影掩模单元对应于该基板的一第二区域，该第二区域与该第一区域部分重叠或是彼此分离；以及

以该阴影掩模单元为掩模，利用该镀膜源进行一第二镀膜制作工艺，以于该开口图案所暴露出的该第二区域上形成一第二图案化镀膜。

2.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中使该阴影掩模单元与该基板之间相对位移的步骤包括：

在该基板的位置固定时，移动该阴影掩模单元。

3.如权利要求2所述的镀膜的方法，其中使该阴影掩模单元与该基板之间相对位移的步骤还包括：

移动该镀膜源，以对齐该阴影掩模单元。

4.如权利要求2所述的镀膜的方法，其中该阴影掩模单元位于该基板的一表面上，且该阴影掩模单元的移动方向平行于该表面的任一方向。

5.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中使该阴影掩模单元与该基板之间相对位移的步骤包括：

在该阴影掩模单元的位置固定时，移动该基板。

6.如权利要求5所述的镀膜的方法，其中该阴影掩模单元位于该基板的一表面上，且该基板的移动方向平行于该表面的任一方向。

7.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中该第一图案化镀膜与该第二图案化镀膜彼此分离或是彼此部分重叠。

8.如权利要求1所述的镀膜的方法，还包括：

使该阴影掩模单元与该基板之间再次相对位移，以使再次位移后的该阴影掩模单元对应于该基板的一第三区域，该第三区域与该第一区域及该第二区域部分重叠或是彼此分离；以及

以该阴影掩模单元为掩模，利用该镀膜源进行一第三镀膜制作工艺，以于该开口图案所暴露出的该第三区域上形成一第三图案化镀膜。

9.如权利要求8所述的镀膜的方法，其中该阴影掩模单元的宽度大于或等于该基板的宽度，且该相对位移的方向平行于该再次相对位移的方向。

10.如权利要求8所述的镀膜的方法，其中该阴影掩模单元的宽度小于该基板的宽度，且该阴影掩模单元的长度小于该基板的长度，其中该相对位移的方向不平行于该再次相对位移的方向。

11.如权利要求10所述的镀膜的方法，其中该相对位移的方向垂直于该再次相对位移的方向。

12.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中该第一镀膜制作工艺与该第二镀膜制作工艺为蒸镀制作工艺。

13.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中该第一图案化镀膜与该第二图案化镀膜的材质包括电激发光材料。

14.如权利要求1所述的镀膜的方法，其中该阴影掩模单元的面积小于该基板的面积。