[发明专利]透明被膜形成用涂布液以及带透明被膜的基材有效

专利信息
申请号: 201110212725.3 申请日: 2011-07-19
公开(公告)号: CN102408798A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 村口良;松田政幸;平井俊晴;小松通郎;箱嶋夕子 申请(专利权)人: 日挥触媒化成株式会社
主分类号: C09D133/00 分类号: C09D133/00;C09D5/24;B32B23/08;B32B27/18
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 冯雅
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 透明 形成 用涂布液 以及 基材
【权利要求书】:

1.透明被膜形成用涂布液,其特征在于,含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质,所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成,所述分散介质含有酮类,总固体成分的浓度在1-60质量%的范围内,表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散,其作为固体成分的浓度在0.01-6质量%的范围内,作为基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量%的范围内,获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构。

Rn-SiX4-n      (1)

其中,R为碳数1-10的非取代或取代的烃基,相互相同或不同。X:碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n:0-3的整数。

2.如权利要求1所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述导电性无机氧化物微粒为掺入Sb的氧化锡(ATO)微粒和/或掺入P的氧化锡(PTO)微粒,平均粒径在5-10nm的范围内。

3.如权利要求1或2所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述导电性无机氧化物微粒为3个以上的导电性无机氧化物微粒的一次粒子链状连接的链状导电性无机氧化物微粒。

4.如权利要求1~3中任一项所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述基质形成成分为烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)。

5.如权利要求4所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)为环氧乙烷改性丙烯酸类树脂。

6.如权利要求1~5中任一项所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述基质形成成分为烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)、且还含有非改性丙烯酸类树脂(B),所述非改性丙烯酸类树脂(B)和所述烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)的固体成分的重量比(B)∶(A)在5∶95~50∶50的范围内。

7.如权利要求1~6中任一项所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述分散介质的酮类为选自丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基铜、丁基甲基酮、环己酮、甲基环己酮、二丙基酮、甲基戊基酮、二异丁基酮、异佛尔酮、乙酰丙酮、乙酰乙酸乙酯的一种以上。

8.如权利要求7所述的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,所述分散介质的酮类为丙酮和/或甲基乙基酮。

9.带透明被膜的基材,含有基材以及形成于该基材表面的透明被膜,所述透明被膜含有导电性无机氧化物微粒和基质成分,且所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成,该导电性无机氧化物微粒在透明被膜中构成链状结构,且高分散,透明被膜中的该导电性无机氧化物微粒的含量为1-12质量%的范围内,透明被膜的表面电阻在108~1011Ω/□范围内,雾度为0.3%以下,总光线透射率为90%以上,且基材的折射率(Ns)和所述透明被膜的折射率(NH)之差为0.02以下。

Rn-SiX4-n             (1)

其中,R为碳数1-10的非取代或取代的烃基,相互相同或不同,X:碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n:0-3的整数。

10.如权利要求9所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述导电性无机氧化物微粒为掺入Sb的氧化锡(ATO)微粒和/或掺入P的氧化锡(PTO)微粒,构成链状结构的一次粒子的平均粒径在5-10nm的范围内,连接数为3以上。

11.如权利要求9或10所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述基质成分为烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)。

12.如权利要求11所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)为环氧乙烷改性丙烯酸类树脂。

13.如权利要求9~12中的任一项所述的带透明被膜的基材,其特征在于,所述基质成分还含有非改性丙烯酸类树脂(B),所述非改性丙烯酸类树脂(B)和所述烯化氧改性丙烯酸类树脂(A)的固体成分的重量比(B)∶(A)在5∶95~50∶50的范围内。

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