[发明专利]透明被膜形成用涂布液以及带透明被膜的基材有效
申请号: | 201110212725.3 | 申请日: | 2011-07-19 |
公开(公告)号: | CN102408798A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 村口良;松田政幸;平井俊晴;小松通郎;箱嶋夕子 | 申请(专利权)人: | 日挥触媒化成株式会社 |
主分类号: | C09D133/00 | 分类号: | C09D133/00;C09D5/24;B32B23/08;B32B27/18 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 冯雅 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 形成 用涂布液 以及 基材 | ||
技术领域
本发明涉及表面处理了的导电性无机氧化物微粒在透明被膜中形成链状结构且高分散,因此导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性,且透明性高,着色以及干涉条纹被抑制,经济性良好的透明被膜形成用涂布液以及带透明被膜的基材。
背景技术
以往,为了提高玻璃、塑料板、塑料透镜等基材表面的耐擦伤性,已知在基材表面形成具有硬质涂膜功能的透明被膜的方法,作为这样的透明被膜,实施将有机树脂膜或无机膜形成于玻璃或塑料等的表面方法。并且,实施了在有机树脂膜或无机膜中掺入树脂颗粒或二氧化硅等无机颗粒而进一步提高耐擦伤性的方法。
另外,使用于显示装置等时,在硬质涂膜性的基础上,为了防止异物、尘埃等的静电附着,试图通过对透明被膜赋予导电性来防止带电的方法也在进行。
已知为了赋予所述导电性而掺入导电性氧化物颗粒的方法。
作为导电性氧化物颗粒,已知氧化锡,掺入Sb、F或P的氧化锡,氧化铟,掺入Sn或F的氧化铟,五氧化锑,低价氧化钛等。(专利文献1:日本专利特开2002-79616号公报)
作为带含有导电性氧化物颗粒的被膜的基材,本发明的申请人分别提出了带含有具有烧绿石结构的五氧化锑微粒的透明带电防止膜的基材(专利文献2,日本专利特开2001-72929号公报),带含有五氧化锑微粒的的硬涂膜的基材(专利文献3:日本专利特开2004-50810号公报),进一步,带含有链状五氧化锑微粒的硬涂膜的基材(专利文献4:日本专利特开2005-139026号公报),并且还提出了带含有通过有机硅化合物的水解物连接导电性微粒的链状导电性微粒(ATO以外的各种的)的透明导电性被膜的基材(专利文献5:日本专利特开2006-339113号公报)。
【专利文献】
【专利文献1】日本专利特开2002-79616号公报
【专利文献2】日本专利特开2001-72929号公报
【专利文献3】日本专利特开2004-50810号公报
【专利文献4】日本专利特开2005-139026号公报
【专利文献5】日本专利特开2006-339113号公报
发明的揭示
但是,以往的带使用了导电性氧化物颗粒的被膜的基材中,例如使用五氧化锑微粒时,虽然透明性良好,但是导电性低,因此防止带电性能不充分。为此,如果增加五氧化锑微粒的含量,则存在产生干涉条纹或经济性降低的问题。
另外,使用掺入P的氧化锡(PTO)时,与使用五氧化锑微粒的情况相比,虽然防止带电性能提高,但是透明性变得不充分,如果使用掺入Sb的氧化锡(ATO),则虽然能够进一步提高防止带电性能,但是透明性降低,或可能会着色而透射率降低。并且,如果使用掺入Sn的氧化铟(ITO),则虽然防止带电性能进一步提高,但是透明性、着色性方面存在问题。
对于氧化锡、氧化铟,已知如上所述通过掺入掺杂剂来提高导电性的方法。但是,虽然掺入P的氧化锡微粒(PTO)、掺入Sn的氧化铟微粒(ITO)、掺入Sb的氧化锡微粒(ATO)的导电性高,但是存在透明性降低或着色的问题,并且可能会基于基材、基质成分的折射率产生干涉条纹,如果为了抑制着色而减少含量,则有可能防止带电性能变得不充分。
因此,为了提高导电性,如专利文献4所述,即使通过将微粒连接成链状,减少粒界电阻,减少颗粒本身的使用量,也难以获得维持充分的防止带电性能、且无着色、无干涉条纹的透明被膜。
并且,以往,同时要求硬质涂层性能、防止带电性能两者时,实施在硬质涂层上形成额外的防止带电层,但是希望通过一次涂布就能够形成具有硬质涂膜性能和防止带电性能的透明被膜的涂布液以及带透明被膜的基材。
本发明者基于这些问题认真研究的结果,发现如果使用酮类分散介质和,作为基质形成成分使用例如环氧乙烷改性丙烯酸类树脂,则能够获得表面处理了的导电性无机氧化物颗粒在透明被膜中以高分散的链状粒子的形式存在,且即使使用少量也具有高导电性且透明性高,着色以及干涉条纹被抑制了的硬质涂膜性良好的透明被膜,从而完成了本发明。
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