[发明专利]标准CMOS或BICMOS IC工艺中用于实现高电压输入/输出的ESD保护无效

专利信息
申请号: 201110222807.6 申请日: 2011-06-22
公开(公告)号: CN102347328A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 科勒·T·克里斯坦森 申请(专利权)人: 奥迪康有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;王智
地址: 丹麦斯*** 国省代码: 丹麦;DK
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 标准 cmos bicmos ic 工艺 用于 实现 电压 输入 输出 esd 保护
【权利要求书】:

1.一种ESD保护的方法,用于保护采用标准CMOS或BiCMOS IC工艺制造的集成电路的高电压输入或输出,所述高电压输入或输出允许呈现大于标准CMOS或BiCMOS IC工艺的特定最大I/O电压的电压摆幅,所述方法包括

a.提供ESD-二极管,其包括阳极和阴极,并且具有正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB,在大于正向偏压VD-FB时,二极管允许电流在从阳极到阴极的正向方向流动,在小于反向击穿电压VD-RB时,二极管允许电流在从阴极到阳极的反向方向流动;

b.提供多个ESD子电路,每个ESD子电路包括与电阻串联耦合的ESD-二极管,每个ESD子电路具有第一和第二电端子;

c.将所述的ESD子电路并联连接,第一电端子连接到集成电路的高电压输入或输出,并且第二电端子连接到公共电压;

d.使得高电压输入电压摆幅在ESD-二极管的正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB之间的范围内。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述ESD-二极管选自具有最大反向击穿电压的PN-结二极管。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述ESD-二极管为N-阱/P-衬底二极管。

4.根据权利要求1所述的方法,其中串联电阻配置为长L和宽W在从0.5μm到10μm范围内,例如在1-4μm范围内。

5.根据权利要求1所述的方法,其中串联电阻是基于非金属硅化N+多晶的。

6.根据权利要求1所述的方法,其中ESD子电路的数量在从2-300范围内,如从50-200。

7.根据权利要求1所述的方法,其中标准CMOS IC工艺的特定最大电压小于5伏±10%,如等于3.3伏±10%。

8.根据权利要求1所述的方法,其中高电压输入的标称电压摆幅不接近反向击穿电压VD-RB的80%或90%或95%。

9.根据权利要求1所述的方法,其中高电压输入或输出适合于连接到便携通讯设备的天线端子,如监听设备,如助听器。

10.一种采用标准CMOS或BiCMOS工艺实现的IC,所述IC包括多个用于处理高电压输入或输出的高电压I/O焊盘并且其中每个高电压I/O焊盘连接到ESD保护电路,所述ESD保护电路包括:

a.ESD-二极管,其包括阳极和阴极并具有正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB,在大于正向偏压VD-FB时,二极管允许电流在从阳极到阴极的正向方向流动,在小于反向击穿电压VD-RB时,二极管允许电流在从阴极到阳极的反向方向流动;

b.多个ESD子电路,每个ESD子电路包括与电阻串联耦合的ESD-二极管,每个ESD子电路具有第一和第二电端子;

c.其中所述的ESD子电路并联连接,第一电端子连接到集成电路的高电压I/O焊盘,并且第二电端子连接到公共电压;和

d.其中ESD保护电路适合于当所述高电压输入或输出的电压摆幅在正向偏压VD-FB和反向击穿电压VD-RB之间时,保护连接到所述高电压I/O焊垫的IC电路。

11.根据权利要求10所述的IC,其中连接到至少一个高电压I/O焊盘的所述电路适合于连接到外部天线,如环形天线。

12.根据权利要求11所述的IC,其中IC包括用于调谐外部天线的天线频率的电路。

13.一种制成品,其包括根据权利要求10所述的IC和独立的天线,如环形天线,其中天线的端子电连接到IC的高电压I/O焊盘。

14.根据权利要求13所述的制成品,其中所述IC和所述天线适合于发射和/或接收频率在3GHz以下的电磁能量,如在30MHz到3GHz范围内。

15.根据权利要求13所述的制成品,其中所述IC和所述天线适合于发射和/或接收频率在30MHz以下的电磁能量,如在100kHz到30MHz范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥迪康有限公司,未经奥迪康有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110222807.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top