[发明专利]玻璃基板的涂布设备及其涂布方法无效
申请号: | 201110227385.1 | 申请日: | 2011-08-09 |
公开(公告)号: | CN102320753A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 简月圆 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 欧阳启明 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 布设 及其 方法 | ||
1.一种玻璃基板的涂布设备,包括设备主体,所述设备主体上设置有移动基台,所述移动基台用于放置玻璃基板,所述设备还包括第一喷嘴以及一滚轴,其特征在于:
所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧;
所述第一喷嘴用于从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至所述滚轴处进行预喷。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备,其特征在于:所述移动基台用于沿预设方向,且相对所述设备主体的水平面移动预设距离,所述预设方向垂直于所述设备主体的水平面;
其中,所述预设轨迹与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的涂布设备,其特征在于:在沿所述预设轨迹移动前,所述第一喷嘴设置于预设位置处,所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
4.根据权利要求3所述的玻璃基板的涂布设备,其特征在于,所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区,其中,相对于所述设备主体的中轴线,所述涂布开始区靠近所述滚轴,所述涂布结束区靠近所述预设位置;
所述第一喷嘴用于从所述涂布开始区对所述移动基台的玻璃基板进行涂布;
在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第一喷嘴位于所述涂布结束区。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板的涂布设备,其特征在于,在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第一喷嘴用于从所述涂布结束区返回到所述预设轨迹上,并沿所述预设轨迹返回至所述预设位置。
6.根据权利要求1所述的玻璃基板的涂布设备,其特征在于,所述设备还包括第二喷嘴,所述第二喷嘴与所述滚轴设置于所述设备主体的同侧;
所述第二喷嘴用于移动至所述滚轴处进行预喷。
7.一种玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
将玻璃基板放置在移动基台上;
控制第一喷嘴从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至滚轴处;
控制所述第一喷嘴进行预喷;
其中,所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧;所述移动基台设置在所述设备主体上。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,在将玻璃基板放置在移动基台上之前,所述方法还包括以下步骤:
控制所述移动基台沿预设方向,且相对所述设备主体的水平面移动预设距离;
其中,所述预设方向垂直于所述设备主体的水平面,所述预设轨迹与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,控制第一喷嘴从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动之前,所述方法还包括以下步骤:
将所述第一喷嘴设置于预设位置处;
其中,所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区,其中,相对于所述设备主体的中轴线,所述涂布开始区靠近所述滚轴,所述涂布结束区靠近所述预设位置;
在所述第一喷嘴完成预喷后,所述方法还包括以下步骤:
控制所述第一喷嘴从所述涂布开始区对所述移动基台的玻璃基板进行涂布;
在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第二喷嘴位于所述涂布结束区。
11.根据权利要求10所述的玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,在所述第一喷嘴在对所述玻璃基板涂布完成后,所述方法还包括以下步骤:
控制所述第一喷嘴从所述涂布结束区返回到所述预设轨迹上,并沿所述预设轨迹返回至所述预设位置。
12.根据权利要求7所述的玻璃基板的涂布设备的涂布方法,其特征在于,所述设备还包括第二喷嘴,所述第二喷嘴与所述滚轴设置于所述设备主体的同侧;
在所述第一喷嘴沿所述预设轨迹移动前,或者在所述第一喷嘴完成对所述玻璃基板的涂布后,所述第二喷嘴移动至所述滚轴处进行预喷。
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