[发明专利]玻璃基板的涂布设备及其涂布方法无效
申请号: | 201110227385.1 | 申请日: | 2011-08-09 |
公开(公告)号: | CN102320753A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 简月圆 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 欧阳启明 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 布设 及其 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种玻璃基板的涂布设备及其涂布方法。
【背景技术】
现有技术的玻璃基板的涂布机中,一般为双喷嘴结构,请参阅图1,包括左喷嘴11和右喷嘴12,左喷嘴11和右喷嘴12分别位于涂布机的两侧,左喷嘴11对应左滚轴13,右喷嘴12对应右滚轴14。
在对玻璃基板进行涂布时,为了满足涂布过程各参数的要求,各喷嘴需首先到各自对应的滚轴处进行预喷。
由于需要在涂布机的两侧分别安装滚轴,使得涂布机的成本提高,占用空间增大。而且,为满足涂布过程各参数的要求,滚轴需长时间的漂洗浸泡以及滚动,无形中造成资源的浪费。
【发明内容】
本发明的一个目的在于提供一种玻璃基板的涂布设备,以解决现有技术中由于涂布机两侧均需安装滚轴,造成成本提高,占用空间增大,以及资源浪费的技术问题。
为解决上述问题,本发明构造了一种玻璃基板的涂布设备,包括设备主体,所述设备主体上设置有移动基台,所述移动基台用于放置玻璃基板,所述设备还包括第一喷嘴以及一滚轴,
所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧;
所述第一喷嘴用于从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至所述滚轴处进行预喷。
在本发明的玻璃基板的涂布设备中,所述移动基台用于沿预设方向,且相对所述设备主体的水平面移动预设距离,所述预设方向垂直于所述设备主体的水平面;
其中,所述预设轨迹与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
在本发明的玻璃基板的涂布设备中,在沿预设轨迹移动前,所述第一喷嘴设置于预设位置处,所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
在本发明的玻璃基板的涂布设备中,所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区,相对于所述设备主体的中轴线,所述涂布开始区靠近所述滚轴,所述涂布结束区靠近所述预设位置;
所述第一喷嘴用于从所述涂布开始区对所述移动基台的玻璃基板进行涂布;
在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第一喷嘴位于所述涂布结束区。
在本发明的玻璃基板的涂布设备中,在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第一喷嘴从所述涂布结束区返回到所述预设轨迹上,并沿所述预设轨迹返回至所述预设位置。
在本发明的玻璃基板的涂布设备中,所述设备还包括第二喷嘴,所述第二喷嘴与所述滚轴设置于所述设备主体的同侧;
所述第二喷嘴用于移动至所述滚轴处进行预喷。
本发明的另一个目的在于提供一种玻璃基板的涂布设备的涂布方法,以解决现有技术中由于涂布机两侧均需安装滚轴,造成成本提高,占用空间增大,以及资源浪费的技术问题。
为解决上述技术问题,本发明构造了一种玻璃基板的涂布设备的涂布方法,所述方法包括以下步骤:
将玻璃基板放置在移动基台上;
控制第一喷嘴从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动至滚轴处;
控制第一喷嘴进行预喷;
其中,所述第一喷嘴与所述滚轴分别位于所述设备主体的两侧;所述移动基台设置在所述设备主体上。
在本发明的玻璃基板的涂布设备的涂布方法中,在将玻璃基板放置在移动基台上之前,所述方法还包括以下步骤:
所述移动基台沿预设方向,且相对所述设备主体的水平面移动预设距离;
其中,所述预设方向垂直于所述设备主体的水平面,所述预设轨迹与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
在本发明的玻璃基板的涂布设备的涂布方法中,控制第一喷嘴从所述第一喷嘴所在的一侧沿预设轨迹移动之前,所述方法还包括以下步骤:
将第一喷嘴设置于预设位置处;
其中,所述预设位置与所述设备主体的水平面的距离大于所述预设距离。
在本发明的玻璃基板的涂布设备的涂布方法中,所述移动基台包括有涂布开始区和涂布结束区,相对于所述设备主体的中轴线,所述涂布开始区靠近所述滚轴,相对于所述设备主体的中轴线,所述涂布结束区靠近所述预设位置;
在所述第一喷嘴完成预喷后,所述方法还包括以下步骤:
控制所述第一喷嘴从所述涂布开始区对所述移动基台的玻璃基板进行涂布;
在对所述玻璃基板涂布完成后,所述第二喷嘴位于所述涂布结束区。
在本发明的玻璃基板的涂布设备的涂布方法中,在所述第一喷嘴在对所述玻璃基板涂布完成后,所述方法还包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110227385.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:可扩展制造装配检定系统
- 下一篇:用于制造减振的构件的方法